ステージシステム - 企業ランキング(全9社)
更新日： 集計期間:2026年04月15日〜2026年05月12日
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| 会社名 | 代表製品 | ||
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| 製品画像・製品名・価格帯 | 概要 | 用途/実績例 | |
| ■ステージ 最小分解能：10nm（内蔵スケールの読み取り値に対して） ストローク：20mm～200mm 最大移動速度：20mm/sec（ストロークや可動タイプにより異なります） ■コントローラ 制御軸数：2 最小指令単位：10nm 最大動作速度設定値：50mm/se... | 微細な位置決めを必要とする様々な分野。 検査装置及び露光装置 レーザー加工装置への応用 光学系の調整 バイオ関係の高再現性が必要な顕微鏡用ステージなど | ||
| ◆大気用位置決め装置 自社開発の光学式リニアスケールを搭載したフィードバックステージと、独自のフィードバック制御機能を有したフィードバックステージコントローラにより、 高分解能 ・ 高い繰り返し再現性 ・ 高位置保持性を達成した位置決め装置です。 ◆真空対応システム... | 精密な位置決めが必要な研究、開発、検査 光学分野の研究用途 半導体描画装置の試料ステージ 顕微鏡ステージ | ||
| ◆大気用位置決め装置 自社開発の光学式リニアスケールを搭載したフィードバックステージと、独自のフィードバック制御機能を有したフィードバックステージコントローラにより、 高分解能 ・ 高い繰り返し再現性 ・ 高位置保持性を達成した位置決め装置です。 ◆真空対応システム... | 精密な位置決めが必要な研究、開発、検査 光学分野の研究用途 半導体描画装置の試料ステージ 顕微鏡ステージ | ||
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シグマ光機株式会社
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- 代表製品
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10nmフィードバックステージシステム（精密位置決め装置）
- 概要
- ■ステージ 最小分解能：10nm（内蔵スケールの読み取り値に対して） ストローク：20mm～200mm 最大移動速度：20mm/sec（ストロークや可動タイプにより異なります） ■コントローラ 制御軸数：2 最小指令単位：10nm 最大動作速度設定値：50mm/se...
- 用途/実績例
- 微細な位置決めを必要とする様々な分野。 検査装置及び露光装置 レーザー加工装置への応用 光学系の調整 バイオ関係の高再現性が必要な顕微鏡用ステージなど
総合フィードバックステージシステムカタログ（大気・真空）第5版
- 概要
- ◆大気用位置決め装置 自社開発の光学式リニアスケールを搭載したフィードバックステージと、独自のフィードバック制御機能を有したフィードバックステージコントローラにより、 高分解能 ・ 高い繰り返し再現性 ・ 高位置保持性を達成した位置決め装置です。 ◆真空対応システム...
- 用途/実績例
- 精密な位置決めが必要な研究、開発、検査 光学分野の研究用途 半導体描画装置の試料ステージ 顕微鏡ステージ
総合フィードバックステージシステムカタログ（大気・真空）
- 概要
- ◆大気用位置決め装置 自社開発の光学式リニアスケールを搭載したフィードバックステージと、独自のフィードバック制御機能を有したフィードバックステージコントローラにより、 高分解能 ・ 高い繰り返し再現性 ・ 高位置保持性を達成した位置決め装置です。 ◆真空対応システム...
- 用途/実績例
- 精密な位置決めが必要な研究、開発、検査 光学分野の研究用途 半導体描画装置の試料ステージ 顕微鏡ステージ
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シグマ光機株式会社
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