ステージシステム - 企業ランキング(全8社)

更新日：2025年07月30日集計期間:2025年07月02日〜2025年07月29日
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会社名	企業情報	代表製品
会社名	企業情報	製品画像・製品名・価格帯	概要	用途/実績例
シグマ光機株式会社	所在地東京都従業員数 338 事業内容 ■光学基本機器製品ベース、ホルダー、ステージ他 ■光学素子・薄膜製品ミラー、ビームスプリッター、フィルター、レンズ、プリズム、ポラライザー、レーザ結晶、非線形結晶、基板、他 ■自動応用製品自動位置・姿勢決め装置、光計測器・制御装置、計測・制御ソフトウェア ■レーザシプロセッシングしシステムレーザ加工機（集光光学系）、レーザ加工機（すきゃにん光学系）、LED照明装置、レーザダイオード駆動電源 ■医療・バイオ関連製品光ピンセット・IR-LEGO、顕微鏡用自動ステージ、コアユニット顕微鏡 ■計測・検査・評価変異センサーユニット、オートフォーカスシステム、ズームマイクロスコープ主要取引先非営利団体・公的機関・大学……約200校 / ・企業……約1100社	総合フィードバックステージシステムカタログ（大気・真空）応相談	◆大気用位置決め装置自社開発の光学式リニアスケールを搭載したフィードバックステージと、独自のフィードバック制御機能を有したフィードバックステージコントローラにより、高分解能・高い繰り返し再現性・高位置保持性を達成した位置決め装置です。 ◆真空対応システム光学式リニアスケールを内蔵したフィードバックステージと、自社独自の制御回路を搭載したフィードバックステージコントローラとの組合せにより、真空内でのフルクローズドループフィードバック機能を実現しております。	精密な位置決めが必要な研究、開発、検査光学分野の研究用途半導体描画装置の試料ステージ顕微鏡ステージ
		サブミクロンフィードバックステージシステム（精密位置決め装置）応相談	■ステージ最小分解能：100nm or 50nm（内蔵スケールの読み取り値に対して）ストローク：20mm～400mm 最大移動速度：20mm/sec（ストロークや可動タイプにより異なります） ■コントローラ制御軸数：2 最小指令単位：100nm or 50nm 最大動作速度設定値：100mm/sec（ステージの最大移動速度が優先されます）制御インターフェース：ジョグコントローラ、緊急停止入力、GP-IB、USB、Ethernet、汎用I/O	微細な位置決めを必要とする様々な分野。検査装置及び露光装置レーザー加工装置への応用光学系の調整バイオ関係の高再現性が必要な顕微鏡用ステージなど
		真空対応サブミクロンフィードバックステージシステム応相談	■ステージ最小分解能：100nm or 50nm（内蔵スケールの読み取り値に対して）ストローク：20mm～100mm 最大移動速度：2mm/sec 対応真空度：10^-4 Pa ■コントローラ制御軸数：2 最小指令単位：100nm or 50nm 最大動作速度設定値：100mm/sec（ステージの最大移動速度が優先されます）制御インターフェース：ジョグコントローラ、緊急停止入力、GP-IB、USB、Ethernet、汎用I/O	微細な位置決めを必要とする様々な分野。 X線を利用した研究分野半導体分野
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シグマ光機株式会社

所在地

東京都

従業員数

338

事業内容

■光学基本機器製品ベース、ホルダー、ステージ他 ■光学素子・薄膜製品ミラー、ビームスプリッター、フィルター、レンズ、プリズム、ポラライザー、レーザ結晶、非線形結晶、基板、他 ■自動応用製品自動位置・姿勢決め装置、光計測器・制御装置、計測・制御ソフトウェア ■レーザシプロセッシングしシステムレーザ加工機（集光光学系）、レーザ加工機（すきゃにん光学系）、LED照明装置、レーザダイオード駆動電源 ■医療・バイオ関連製品光ピンセット・IR-LEGO、顕微鏡用自動ステージ、コアユニット顕微鏡 ■計測・検査・評価変異センサーユニット、オートフォーカスシステム、ズームマイクロスコープ

主要取引先

非営利団体・公的機関・大学……約200校 / ・企業……約1100社

代表製品

総合フィードバックステージシステムカタログ（大気・真空）

概要

◆大気用位置決め装置自社開発の光学式リニアスケールを搭載したフィードバックステージと、独自のフィードバック制御機能を有したフィードバックステージコントローラにより、高分解能・高い繰り返し再現性・高位置保持性を達成した位置決め装置です。 ◆真空対応システム光学式リニアスケールを内蔵したフィードバックステージと、自社独自の制御回路を搭載したフィードバックステージコントローラとの組合せにより、真空内でのフルクローズドループフィードバック機能を実現しております。

用途/実績例

精密な位置決めが必要な研究、開発、検査光学分野の研究用途半導体描画装置の試料ステージ顕微鏡ステージ

サブミクロンフィードバックステージシステム（精密位置決め装置）

概要

■ステージ最小分解能：100nm or 50nm（内蔵スケールの読み取り値に対して）ストローク：20mm～400mm 最大移動速度：20mm/sec（ストロークや可動タイプにより異なります） ■コントローラ制御軸数：2 最小指令単位：100nm or 50nm 最大動作速度設定値：100mm/sec（ステージの最大移動速度が優先されます）制御インターフェース：ジョグコントローラ、緊急停止入力、GP-IB、USB、Ethernet、汎用I/O

用途/実績例

微細な位置決めを必要とする様々な分野。検査装置及び露光装置レーザー加工装置への応用光学系の調整バイオ関係の高再現性が必要な顕微鏡用ステージなど

真空対応サブミクロンフィードバックステージシステム

概要

■ステージ最小分解能：100nm or 50nm（内蔵スケールの読み取り値に対して）ストローク：20mm～100mm 最大移動速度：2mm/sec 対応真空度：10^-4 Pa ■コントローラ制御軸数：2 最小指令単位：100nm or 50nm 最大動作速度設定値：100mm/sec（ステージの最大移動速度が優先されます）制御インターフェース：ジョグコントローラ、緊急停止入力、GP-IB、USB、Ethernet、汎用I/O

用途/実績例

微細な位置決めを必要とする様々な分野。 X線を利用した研究分野半導体分野
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事業内容

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