ステージシステム - 企業ランキング(全8社)
更新日： 集計期間:2025年10月15日〜2025年11月11日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
企業情報を表示
| 会社名 | 代表製品 | ||
|---|---|---|---|
| 製品画像・製品名・価格帯 | 概要 | 用途/実績例 | |
| ■ステージ 最小分解能：5nm（内蔵スケールの読み取り値に対して） ストローク：20mm～50mm 最大移動速度：2mm/sec 対応真空度：10^-4 Pa ■コントローラ 制御軸数：2 最小指令単位：5nm 最大動作速度設定値：30mm/sec（ステージの最大... | 微細な位置決めを必要とする様々な分野。 X線を利用した研究分野 半導体分野 | ||
| ◆大気用位置決め装置 自社開発の光学式リニアスケールを搭載したフィードバックステージと、独自のフィードバック制御機能を有したフィードバックステージコントローラにより、 高分解能 ・ 高い繰り返し再現性 ・ 高位置保持性を達成した位置決め装置です。 ◆真空対応システム... | 精密な位置決めが必要な研究、開発、検査 光学分野の研究用途 半導体描画装置の試料ステージ 顕微鏡ステージ | ||
| ■ステージ 最小分解能：100nm or 50nm（内蔵スケールの読み取り値に対して） ストローク：20mm～100mm 最大移動速度：2mm/sec 対応真空度：10^-4 Pa ■コントローラ 制御軸数：2 最小指令単位：100nm or 50nm 最大動作速... | 微細な位置決めを必要とする様々な分野。 X線を利用した研究分野 半導体分野 | ||
|
---
--- |
--- | --- | |
シグマ光機株式会社
-
- 代表製品
-
真空対応5nmフィードバックステージシステム
- 概要
- ■ステージ 最小分解能：5nm（内蔵スケールの読み取り値に対して） ストローク：20mm～50mm 最大移動速度：2mm/sec 対応真空度：10^-4 Pa ■コントローラ 制御軸数：2 最小指令単位：5nm 最大動作速度設定値：30mm/sec（ステージの最大...
- 用途/実績例
- 微細な位置決めを必要とする様々な分野。 X線を利用した研究分野 半導体分野
総合フィードバックステージシステムカタログ（大気・真空）
- 概要
- ◆大気用位置決め装置 自社開発の光学式リニアスケールを搭載したフィードバックステージと、独自のフィードバック制御機能を有したフィードバックステージコントローラにより、 高分解能 ・ 高い繰り返し再現性 ・ 高位置保持性を達成した位置決め装置です。 ◆真空対応システム...
- 用途/実績例
- 精密な位置決めが必要な研究、開発、検査 光学分野の研究用途 半導体描画装置の試料ステージ 顕微鏡ステージ
真空対応サブミクロンフィードバックステージシステム
- 概要
- ■ステージ 最小分解能：100nm or 50nm（内蔵スケールの読み取り値に対して） ストローク：20mm～100mm 最大移動速度：2mm/sec 対応真空度：10^-4 Pa ■コントローラ 制御軸数：2 最小指令単位：100nm or 50nm 最大動作速...
- 用途/実績例
- 微細な位置決めを必要とする様々な分野。 X線を利用した研究分野 半導体分野
-
シグマ光機株式会社
すべてを閲覧するには会員登録（無料）が必要です。
すでに会員の方はこちら
