スパッタ装置 - 企業ランキング(全45社)
更新日: 集計期間:2025年08月27日〜2025年09月23日
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会社名 | 代表製品 | ||
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製品画像・製品名・価格帯 | 概要 | 用途/実績例 | |
![]() デスクトップRFスパッタ装置『SVC-700RFIII』
500万円 ~ 1000万円 |
【製品仕様】 スパッタ方式:RFマグネトロンスパッタ方式 カソード:φ2インチ×3源/水冷式 スパッタアップ スパッタ電源:RF電源 13.56MHz Max. 200W(手動式マッチングユニット付) 到達真空度:10^-4 Pa台 寸法: SVC-700RFIII... | ||
![]() 多種金属対応!業界最小クラスの超コンパクトコーターです。
500万円 ~ 1000万円 |
【仕様】 ○ターゲットサイズ:φ49mm/t0.5mm(Max) ○適用可能ターゲット:Au/Pt/Au-Pd/Pt-Pd/Ag/Pd/W/Ni/Mo/Cr/Ti/Al ○試料サイズ:φ50mm(Max) ○排気操作:手動式 ○スパッタ方式:DCマグネトロン/平行平板型... | 【用途】 ○各種デバイスの電極膜付け ○反射薄膜作製用途 等 | |
![]() 研究・開発実験用 RFスパッタ装置
500万円 ~ 1000万円 |
☆金属薄膜は勿論、絶縁薄膜/酸化薄膜生成に対応した小型RFスパッタ装置☆ お薦めPOINT <実験目的にあわせたカスタマイズ!!> 1.試料サイズに合わせ3種類のチャンバーをご用意 2.カソードサイズは2〜6インチに対応 3.2インチカソードタイプは3源式にも対応 =... | 各種用途における絶縁薄膜/酸化薄膜生成 | |
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- 代表製品
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デスクトップRFスパッタ装置『SVC-700RFIII』
- 概要
- 【製品仕様】 スパッタ方式:RFマグネトロンスパッタ方式 カソード:φ2インチ×3源/水冷式 スパッタアップ スパッタ電源:RF電源 13.56MHz Max. 200W(手動式マッチングユニット付) 到達真空度:10^-4 Pa台 寸法: SVC-700RFIII...
- 用途/実績例
多種金属対応!業界最小クラスの超コンパクトコーターです。
- 概要
- 【仕様】 ○ターゲットサイズ:φ49mm/t0.5mm(Max) ○適用可能ターゲット:Au/Pt/Au-Pd/Pt-Pd/Ag/Pd/W/Ni/Mo/Cr/Ti/Al ○試料サイズ:φ50mm(Max) ○排気操作:手動式 ○スパッタ方式:DCマグネトロン/平行平板型...
- 用途/実績例
- 【用途】 ○各種デバイスの電極膜付け ○反射薄膜作製用途 等
研究・開発実験用 RFスパッタ装置
- 概要
- ☆金属薄膜は勿論、絶縁薄膜/酸化薄膜生成に対応した小型RFスパッタ装置☆ お薦めPOINT <実験目的にあわせたカスタマイズ!!> 1.試料サイズに合わせ3種類のチャンバーをご用意 2.カソードサイズは2〜6インチに対応 3.2インチカソードタイプは3源式にも対応 =...
- 用途/実績例
- 各種用途における絶縁薄膜/酸化薄膜生成
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