スパッタ装置 - 企業ランキング(全45社)
更新日： 集計期間:2026年03月04日〜2026年03月31日
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企業情報を表示
| 会社名 | 代表製品 | ||
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| 製品画像・製品名・価格帯 | 概要 | 用途/実績例 | |
デスクトップRFスパッタ装置『SVC-700RFIII』
500万円 ~ 1000万円 |
【製品仕様】 スパッタ方式：RFマグネトロンスパッタ方式 カソード：φ2インチ×3源/水冷式 スパッタアップ スパッタ電源：RF電源 13.56MHz Max. 200W(手動式マッチングユニット付) 到達真空度：10^-4 Pa台 寸法： SVC-700RFIII... | ||
コンパクトコーター「SVC-700TMSG/Adexcel」
500万円 ~ 1000万円 |
【基本仕様（抜粋）】 ○放電形態：直流マグネトロン ○放電制御：定電流 30mA ○圧力制御：ニードルバルブによる手動制御 ○プロセス時間：最大15min/タイマー制御 ○プロセスガス：Ar（導入圧力 0.1MPa以下） ○プロセスガス導入口：φ6mmワンタッチ継手（... | ||
研究・開発実験用 RFスパッタ装置
500万円 ~ 1000万円 |
【用途】 ○各種デバイスの電極膜付け ○反射薄膜作製用途 etc. | ||
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サンユー電子株式会社
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- 代表製品
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デスクトップRFスパッタ装置『SVC-700RFIII』
- 概要
- 【製品仕様】 スパッタ方式：RFマグネトロンスパッタ方式 カソード：φ2インチ×3源/水冷式 スパッタアップ スパッタ電源：RF電源 13.56MHz Max. 200W(手動式マッチングユニット付) 到達真空度：10^-4 Pa台 寸法： SVC-700RFIII...
- 用途/実績例
コンパクトコーター「SVC-700TMSG/Adexcel」
- 概要
- 【基本仕様（抜粋）】 ○放電形態：直流マグネトロン ○放電制御：定電流 30mA ○圧力制御：ニードルバルブによる手動制御 ○プロセス時間：最大15min/タイマー制御 ○プロセスガス：Ar（導入圧力 0.1MPa以下） ○プロセスガス導入口：φ6mmワンタッチ継手（...
- 用途/実績例
研究・開発実験用 RFスパッタ装置
- 概要
- 用途/実績例
- 【用途】 ○各種デバイスの電極膜付け ○反射薄膜作製用途 etc.
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サンユー電子株式会社
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