スパッタ装置のメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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スパッタ装置 - 企業ランキング(全34社)

更新日: 集計期間:2025年03月26日〜2025年04月22日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

会社名 代表製品
製品画像・製品名・価格帯 概要 用途/実績例
【製品仕様】 スパッタ方式:RFマグネトロンスパッタ方式 カソード:φ2インチ×3源/水冷式 スパッタアップ スパッタ電源:RF電源 13.56MHz Max. 200W(手動式マッチングユニット付) 到達真空度:10^-4 Pa台 寸法:  SVC-700RFIII(制御ユニット):W370×D310×H195mm  RF CONTROL UNIT:W370×D310×H158mm  チャンバーユニット:W370×D540×H400mm 所要電源:AC100V 50/60Hz 15A 1系統 3pinプラグ
【用途】 ○各種デバイスの電極膜付け ○反射薄膜作製用途 etc.
☆金属薄膜は勿論、絶縁薄膜/酸化薄膜生成に対応した小型RFスパッタ装置☆ お薦めPOINT <実験目的にあわせたカスタマイズ!!> 1.試料サイズに合わせ3種類のチャンバーをご用意 2.カソードサイズは2〜6インチに対応 3.2インチカソードタイプは3源式にも対応 = 薄膜の積層を実現 4.多彩なオプションをご用意   基板加熱ユニット/基板冷却ユニット/MFCユニット etc. 各種用途における絶縁薄膜/酸化薄膜生成
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  1. 代表製品
    デスクトップRFスパッタ装置『SVC-700RFIII』デスクトップRFスパッタ装置『SVC-700RFIII』
    概要
    【製品仕様】 スパッタ方式:RFマグネトロンスパッタ方式 カソード:φ2インチ×3源/水冷式 スパッタアップ スパッタ電源:RF電源 13.56MHz Max. 200W(手動式マッチングユニット付) 到達真空度:10^-4 Pa台 寸法:  SVC-700RFIII(制御ユニット):W370×D310×H195mm  RF CONTROL UNIT:W370×D310×H158mm  チャンバーユニット:W370×D540×H400mm 所要電源:AC100V 50/60Hz 15A 1系統 3pinプラグ
    用途/実績例
    研究・開発実験用 RFスパッタ装置研究・開発実験用 RFスパッタ装置
    概要
    用途/実績例
    【用途】 ○各種デバイスの電極膜付け ○反射薄膜作製用途 etc.
    研究・開発実験用 RFスパッタ装置研究・開発実験用 RFスパッタ装置
    概要
    ☆金属薄膜は勿論、絶縁薄膜/酸化薄膜生成に対応した小型RFスパッタ装置☆ お薦めPOINT <実験目的にあわせたカスタマイズ!!> 1.試料サイズに合わせ3種類のチャンバーをご用意 2.カソードサイズは2〜6インチに対応 3.2インチカソードタイプは3源式にも対応 = 薄膜の積層を実現 4.多彩なオプションをご用意   基板加熱ユニット/基板冷却ユニット/MFCユニット etc.
    用途/実績例
    各種用途における絶縁薄膜/酸化薄膜生成