コンパクトな卓上サイズで3源のカソードを搭載。絶縁薄膜、酸化物・窒化物薄膜の作製も可能
『SVC-700RFIII』は、卓上に置けるコンパクトなサイズながらφ2インチのカソードを3基搭載。3種類のターゲットを使用した積層膜の形成が可能なRFマグネトロンスパッタ装置です。 ガス導入機構を増設でき、アルゴンガスを含めた最大3種類のガス導入が可能。 金属薄膜に加え、絶縁薄膜、酸化物・窒化物薄膜など様々な薄膜作製に対応できます。 【特長】 ■研究開発向けのデスクトップサイズ ■試料サイズ：最大φ2インチ ■膜厚センサー追加可能 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
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基本情報
【製品仕様】 スパッタ方式：RFマグネトロンスパッタ方式 カソード：φ2インチ×3源/水冷式 スパッタアップ スパッタ電源：RF電源 13.56MHz Max. 200W(手動式マッチングユニット付) 到達真空度：10^-4 Pa台 寸法： SVC-700RFIII(制御ユニット)：W370×D310×H195mm RF CONTROL UNIT：W370×D310×H158mm チャンバーユニット：W370×D540×H400mm 所要電源：AC100V 50/60Hz 15A 1系統 3pinプラグ ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
価格帯
500万円 ~ 1000万円
納期
用途／実績例
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企業情報
経営理念は、「コア技術で研究開発の未来を切り拓く」こと。 研究／開発に携わる方々が、実験において必要とするものを必要なときに提供させていただくことをモットーとし、“装置の機能拡張性を高める”とともに、“多彩なオプション”をご用意しております。 また、“フットワークの軽さ”を武器に、お客様の様々なニーズにお応えできるよう、日々努めております。