スパッタ装置 - 企業ランキング(全45社)
更新日: 集計期間:2026年09月02日〜2026年09月29日
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企業情報を表示
| 会社名 | 代表製品 | ||
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| 製品画像・製品名・価格帯 | 概要 | 用途/実績例 | |
| 【実績例(量産機)】 <4層インライン型> ■基板:400×400max ■ターゲット:500L×150H×5t ■8層膜までの拡張が可能 <2層ロールtoロール型> ■基板:フィルム幅1000max ■ターゲット:1000L×150H×5t ■2層膜 | 【実績例(実験機)】 <4層カルーセル型> ■基板:80×80max ■ターゲット:100 ■スパッタガス:4系統 ■電源:DC3KW 4点切替器付 ■排気系:ターボ分子ポンプ 450L/min | ||
実験用スパッタ装置
応相談 |
拡張性 ● 基板回転機構の追加(後からの追加が可能) ● 基板加熱機構の追加(後からの追加が可能) ● スパッタソースの多元化(チェンバー作製時に対応型にする必要があります)。 ● その他お客様のご希望によるカスタム設計には出来る限り対応いたします。 | ● 研究機関の各種実験 ● 電子顕微鏡用試料 | |
ユニフォームプラズマスパッタ装置
応相談 |
【特長】 ●均一なプラズマ分布 ●独立したプラズマ室 ●基板温度100℃以下の低温スパッタ(SiO2,2KW,1時間) ●基板へのプラズマ衝撃フリーにより緻密な膜の形成・組成ずれのない合金膜 ●CVDのような特殊なガスを使わず、ターゲット間を電子が高速で往復することでス... | ●有機EL用導電膜・保護膜 ●反射防止膜 ●透明導電膜 ●合金膜(超伝導薄膜・太陽電池薄膜など) ●熱に弱い基材への成膜 ●成膜コストの削減 | |
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- 代表製品
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超低温スパッタが可能な対向ターゲット方式スパッタリング装置
- 概要
- 【実績例(量産機)】 <4層インライン型> ■基板:400×400max ■ターゲット:500L×150H×5t ■8層膜までの拡張が可能 <2層ロールtoロール型> ■基板:フィルム幅1000max ■ターゲット:1000L×150H×5t ■2層膜
- 用途/実績例
- 【実績例(実験機)】 <4層カルーセル型> ■基板:80×80max ■ターゲット:100 ■スパッタガス:4系統 ■電源:DC3KW 4点切替器付 ■排気系:ターボ分子ポンプ 450L/min
実験用スパッタ装置
- 概要
- 拡張性 ● 基板回転機構の追加(後からの追加が可能) ● 基板加熱機構の追加(後からの追加が可能) ● スパッタソースの多元化(チェンバー作製時に対応型にする必要があります)。 ● その他お客様のご希望によるカスタム設計には出来る限り対応いたします。
- 用途/実績例
- ● 研究機関の各種実験 ● 電子顕微鏡用試料
ユニフォームプラズマスパッタ装置
- 概要
- 【特長】 ●均一なプラズマ分布 ●独立したプラズマ室 ●基板温度100℃以下の低温スパッタ(SiO2,2KW,1時間) ●基板へのプラズマ衝撃フリーにより緻密な膜の形成・組成ずれのない合金膜 ●CVDのような特殊なガスを使わず、ターゲット間を電子が高速で往復することでス...
- 用途/実績例
- ●有機EL用導電膜・保護膜 ●反射防止膜 ●透明導電膜 ●合金膜(超伝導薄膜・太陽電池薄膜など) ●熱に弱い基材への成膜 ●成膜コストの削減
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株式会社ヤシマ