プリント装置 - 企業ランキング(全10社)
更新日： 集計期間:2025年03月26日〜2025年04月22日
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| 会社名 | 代表製品 | ||
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| 製品画像・製品名・価格帯 | 概要 | 用途/実績例 | |
ナノインプリント装置 Model TM-03
100万円 ~ 500万円 |
【装置仕様】 ○インプリント方式：光硬化方式 ○プレス剥離荷重：0.1～100N ○プレス剥離荷重：1〜1000μm/sec ○UV装置性能：光量400ｍW/cm2、波長 最大 365ｍｍ ○電源：AC100V ○装置重量：約25kg ○サンプル基盤：Siウェハ・ガラス基板 ○飼料寸法：20×20ｍｍ | ウェハ及びガラス上へのパターン成形 | |
ナノインプリント装置
100万円 ~ 500万円 |
熱硬化方式と光硬化方式の両方の方式を 1台で実現でする、ナノインプリント装置 【特徴】 ○数10nm〜数100nmの極微細加工した 金型を樹脂や硝子に押し付け、短時間に同一形状の部品を大量に作り出す ○熱により軟化させ更に冷却し硬化させる熱硬化方式と UV工化樹脂を使用しUV光により硬化させる光硬化方式を1台の装置で実現 ○必要とされる条件を設定でき PCへそれぞれの条件の測定及び側定結果が記録できる ○プレス／剥離速度：1〜1000μm/sec ○最大荷重：1000Kg（総圧） ○温度：室温〜250℃ ○ワークサイズ：50×50ｍｍ | ||
ナノインプリント装置 Model TM-04
100万円 ~ 500万円 |
光硬化方式ので電源も必要ないナノインプリント装置 【特徴】 ○数10nm〜数100nmの極微細加工した 金型を樹脂や硝子に押し付け、短時間に同一形状の部品を大量に作り出す ○熱により軟化させ更に冷却し硬化させる熱硬化方式と UV工化樹脂を使用しUV光により硬化させる光硬化方式を1台の装置で実現 ○必要とされる条件を設定でき PCへそれぞれの条件の測定及び側定結果が記録できる ○プレス／剥離速度：1〜1000μm/sec ○最大荷重：1000Kg（総圧） ○温度：室温〜250℃ ○ワークサイズ：50×50ｍｍ | ウェハ又はガラス上にナノパターンを形成できる。 | |
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三井電気精機株式会社
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- 代表製品
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ナノインプリント装置 Model TM-03
- 概要
- 【装置仕様】 ○インプリント方式：光硬化方式 ○プレス剥離荷重：0.1～100N ○プレス剥離荷重：1〜1000μm/sec ○UV装置性能：光量400ｍW/cm2、波長 最大 365ｍｍ ○電源：AC100V ○装置重量：約25kg ○サンプル基盤：Siウェハ・ガラス基板 ○飼料寸法：20×20ｍｍ
- 用途/実績例
- ウェハ及びガラス上へのパターン成形
ナノインプリント装置
- 概要
- 熱硬化方式と光硬化方式の両方の方式を 1台で実現でする、ナノインプリント装置 【特徴】 ○数10nm〜数100nmの極微細加工した 金型を樹脂や硝子に押し付け、短時間に同一形状の部品を大量に作り出す ○熱により軟化させ更に冷却し硬化させる熱硬化方式と UV工化樹脂を使用しUV光により硬化させる光硬化方式を1台の装置で実現 ○必要とされる条件を設定でき PCへそれぞれの条件の測定及び側定結果が記録できる ○プレス／剥離速度：1〜1000μm/sec ○最大荷重：1000Kg（総圧） ○温度：室温〜250℃ ○ワークサイズ：50×50ｍｍ
- 用途/実績例
ナノインプリント装置 Model TM-04
- 概要
- 光硬化方式ので電源も必要ないナノインプリント装置 【特徴】 ○数10nm〜数100nmの極微細加工した 金型を樹脂や硝子に押し付け、短時間に同一形状の部品を大量に作り出す ○熱により軟化させ更に冷却し硬化させる熱硬化方式と UV工化樹脂を使用しUV光により硬化させる光硬化方式を1台の装置で実現 ○必要とされる条件を設定でき PCへそれぞれの条件の測定及び側定結果が記録できる ○プレス／剥離速度：1〜1000μm/sec ○最大荷重：1000Kg（総圧） ○温度：室温〜250℃ ○ワークサイズ：50×50ｍｍ
- 用途/実績例
- ウェハ又はガラス上にナノパターンを形成できる。
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三井電気精機株式会社
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