すべてのステージで高品質・低コスト・高い設備生産性を追及・実現！
『X-300』は、熱式・UV式両用のR&Dパイロット生産対応可能なナノ インプリント装置です。 R&Dから量産まで、すべてのステージで高品質・低コスト・高い設備 生産性を追及し、実現します。 当社では、R&Dと量産に向けてのナノインプリント・トータルソリュー ションを提供しています。 【特長】 ■R＆Dからパイロット生産まで対応可能 ■熱式・UV式両用 ■高品質 ■低コスト ■高い設備生産性 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【仕様（抜粋）】 ■プロセス方式：一括転写方式 ■対象ワーク ・熱可塑性樹脂 ・UV硬化性樹脂（UV仕様）※オプション ・各種ガラス（高温仕様）※オプション ■最大加圧力50kN ■金型サイズ：□100mm（熱式のみφ150mm可能） ■基板サイズ：□100mm（熱式のみφ150mm可能） ■金型加熱最大温度 ・室温～250℃ ・室温～650℃（オプション） ■基板加熱最大温度 ・室温～250℃ ・室温～650℃（オプション） ■冷却機構 ・250℃迄：強制空冷ー強制水冷 切替式 ・250℃以上：強制空冷式(オプション） ■面内温度均一性：±1℃ ■最大連続荷重時間：30分 ■最大ステージストローク：100mm ■ステージ位置最小分解能：0.05μm ■ステージ移動最小速度：0.05μm/sec ■外形寸法：H1,800×D1,350×W900(mm) ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
企業情報
安価にナノサイズの微細加工を行うには、装置は勿論のこと、光学設計・金型・材料・ナノインプリント・エッチング・検査といった様々な要素技術が不可欠です。弊社は様々な分野の技術者を擁し、お客様が必要とする各要素技術の提供が可能です。 光学用途や電子用途などのお客様の様々なニーズに対して、一歩も二歩も踏み込んだトータルなサポートを行っております。微細加工、特にナノのウェハ加工をご検討の際は是非ご一報ください。