MS分析 - 企業ランキング(全5社)
更新日: 集計期間:2025年08月13日〜2025年09月09日
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企業情報を表示
会社名 | 代表製品 | ||
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製品画像・製品名・価格帯 | 概要 | 用途/実績例 | |
・化合物半導体中のドーパント濃度深さ方向分析 ・化合物半導体中のエピタキシャル層の膜厚分析 ・Si基板中の極低エネルギーイオン注入分布評価 | ・化合物半導体AlGaAsの評価(VCSEL LASER深さ方向組成、不純物濃度分析) ・テへテロバイポーラトランジスタ(HBT)の分析 ・Si基板へのBの極浅注入分布評価 | ||
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- 代表製品
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SIMS分析|PCOR-SIMS(高精度・二次イオン質量分析法)
- 概要
- ・化合物半導体中のドーパント濃度深さ方向分析 ・化合物半導体中のエピタキシャル層の膜厚分析 ・Si基板中の極低エネルギーイオン注入分布評価
- 用途/実績例
- ・化合物半導体AlGaAsの評価(VCSEL LASER深さ方向組成、不純物濃度分析) ・テへテロバイポーラトランジスタ(HBT)の分析 ・Si基板へのBの極浅注入分布評価
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