ナノインプリント装置 - 企業ランキング(全7社)
更新日： 集計期間:2025年05月21日〜2025年06月17日
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| 会社名 | 代表製品 | ||
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| 製品画像・製品名・価格帯 | 概要 | 用途/実績例 | |
| 【仕様（抜粋）】 ■プロセス方式：一括転写方式 ■対象ワーク ・熱可塑性樹脂 ・UV硬化性樹脂（UV仕様）※オプション ・各種ガラス（高温仕様）※オプション ■最大加圧力50kN ■金型サイズ：□100mm（熱式のみφ150mm可能） ■基板サイズ：□100mm（熱式のみφ150mm可能） ■金型加熱最大温度 ・室温～250℃ ・室温～650℃（オプション） ■基板加熱最大温度 ・室温～250℃ ・室温～650℃（オプション） ■冷却機構 ・250℃迄：強制空冷ー強制水冷 切替式 ・250℃以上：強制空冷式(オプション） ■面内温度均一性：±1℃ ■最大連続荷重時間：30分 ■最大ステージストローク：100mm ■ステージ位置最小分解能：0.05μm ■ステージ移動最小速度：0.05μm/sec ■外形寸法：H1,800×D1,350×W900(mm) | |||
| Ｒ＆Ｄからパイロット生産まで対応。すべてのステージで、高品質、低コスト、高い設備生産性を追及しました。 本格的な技術開発に最適なナノインプリント装置Ｘ-300です。 ■□■特徴■□■ ■加工方式：熱式、ＵＶ式 ■加工サイズ：口100mm（熱式φ150mm） ■変位の最小分解能：50nm ■加圧力：常用最大：50kN ■金型平行度調整機構：標準搭載 ■レジスト加工 ・残膜5nm以下でコントロールが可能 ・モールド技術開発により15万ショット耐久性を確認 ■フィルム加工 ・実用化ラインによる製品製造（細胞培養プレート） ・ナノからミクロンまで様々なパターン加工が可能 ■SCIVAX社では、フィルム加工及びレジストによる基板加工への各種ご提案を行っております。 LED、各種光学素子（光学フィルム）、各種電子デバイスに関しまして、 用途に応じた量産プロセスのご提案をさせて頂きます。 | UV・熱可塑・熱硬化、各種ナノインプリント加工 ■用途例■ ■樹脂板材成型 ■レジスト成型加工 ■ガラス材料・成型 ■フィルム成型 ■LED超微細構造形成 ■微細パターン転写 | ||
| 【特徴】 ○量産への最大の課題である高い再現性を実現 ○小面積から大面積まで様々なワークサイズの一括転写に対応 ○高い拡張性 ○廉価なRubiQ Type RD-100から、各種取り揃えております。 | |||
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SCIVAX株式会社
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- 代表製品
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ナノインプリント装置『X-300』
- 概要
- 【仕様（抜粋）】 ■プロセス方式：一括転写方式 ■対象ワーク ・熱可塑性樹脂 ・UV硬化性樹脂（UV仕様）※オプション ・各種ガラス（高温仕様）※オプション ■最大加圧力50kN ■金型サイズ：□100mm（熱式のみφ150mm可能） ■基板サイズ：□100mm（熱式のみφ150mm可能） ■金型加熱最大温度 ・室温～250℃ ・室温～650℃（オプション） ■基板加熱最大温度 ・室温～250℃ ・室温～650℃（オプション） ■冷却機構 ・250℃迄：強制空冷ー強制水冷 切替式 ・250℃以上：強制空冷式(オプション） ■面内温度均一性：±1℃ ■最大連続荷重時間：30分 ■最大ステージストローク：100mm ■ステージ位置最小分解能：0.05μm ■ステージ移動最小速度：0.05μm/sec ■外形寸法：H1,800×D1,350×W900(mm)
- 用途/実績例
熱式・UV式ナノインプリント装置 X-300
- 概要
- Ｒ＆Ｄからパイロット生産まで対応。すべてのステージで、高品質、低コスト、高い設備生産性を追及しました。 本格的な技術開発に最適なナノインプリント装置Ｘ-300です。 ■□■特徴■□■ ■加工方式：熱式、ＵＶ式 ■加工サイズ：口100mm（熱式φ150mm） ■変位の最小分解能：50nm ■加圧力：常用最大：50kN ■金型平行度調整機構：標準搭載 ■レジスト加工 ・残膜5nm以下でコントロールが可能 ・モールド技術開発により15万ショット耐久性を確認 ■フィルム加工 ・実用化ラインによる製品製造（細胞培養プレート） ・ナノからミクロンまで様々なパターン加工が可能 ■SCIVAX社では、フィルム加工及びレジストによる基板加工への各種ご提案を行っております。 LED、各種光学素子（光学フィルム）、各種電子デバイスに関しまして、 用途に応じた量産プロセスのご提案をさせて頂きます。
- 用途/実績例
- UV・熱可塑・熱硬化、各種ナノインプリント加工 ■用途例■ ■樹脂板材成型 ■レジスト成型加工 ■ガラス材料・成型 ■フィルム成型 ■LED超微細構造形成 ■微細パターン転写
UV／熱／両用ナノインプリント装置
- 概要
- 【特徴】 ○量産への最大の課題である高い再現性を実現 ○小面積から大面積まで様々なワークサイズの一括転写に対応 ○高い拡張性 ○廉価なRubiQ Type RD-100から、各種取り揃えております。
- 用途/実績例
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SCIVAX株式会社
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