ナノインプリント装置のメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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ナノインプリント装置 - 企業ランキング(全8社)

更新日: 集計期間:2025年03月26日〜2025年04月22日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

会社名 代表製品
製品画像・製品名・価格帯 概要 用途/実績例
【装置仕様】 ○インプリント方式:光硬化方式 ○プレス剥離荷重:0.1~100N ○プレス剥離荷重:1〜1000μm/sec ○UV装置性能:光量400mW/cm2、波長 最大 365mm ○電源:AC100V ○装置重量:約25kg ○サンプル基盤:Siウェハ・ガラス基板 ○飼料寸法:20×20mm ウェハ及びガラス上へのパターン成形
ナノインプリント装置
ナノインプリント装置

100万円 ~ 500万円

熱硬化方式と光硬化方式の両方の方式を 1台で実現でする、ナノインプリント装置 【特徴】 ○数10nm〜数100nmの極微細加工した  金型を樹脂や硝子に押し付け、短時間に同一形状の部品を大量に作り出す ○熱により軟化させ更に冷却し硬化させる熱硬化方式と  UV工化樹脂を使用しUV光により硬化させる光硬化方式を1台の装置で実現 ○必要とされる条件を設定でき  PCへそれぞれの条件の測定及び側定結果が記録できる ○プレス/剥離速度:1〜1000μm/sec ○最大荷重:1000Kg(総圧) ○温度:室温〜250℃ ○ワークサイズ:50×50mm
光硬化方式ので電源も必要ないナノインプリント装置 【特徴】 ○数10nm〜数100nmの極微細加工した  金型を樹脂や硝子に押し付け、短時間に同一形状の部品を大量に作り出す ○熱により軟化させ更に冷却し硬化させる熱硬化方式と  UV工化樹脂を使用しUV光により硬化させる光硬化方式を1台の装置で実現 ○必要とされる条件を設定でき  PCへそれぞれの条件の測定及び側定結果が記録できる ○プレス/剥離速度:1〜1000μm/sec ○最大荷重:1000Kg(総圧) ○温度:室温〜250℃ ○ワークサイズ:50×50mm ウェハ又はガラス上にナノパターンを形成できる。
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  1. 代表製品
    ナノインプリント装置 Model TM-03ナノインプリント装置 Model TM-03
    概要
    【装置仕様】 ○インプリント方式:光硬化方式 ○プレス剥離荷重:0.1~100N ○プレス剥離荷重:1〜1000μm/sec ○UV装置性能:光量400mW/cm2、波長 最大 365mm ○電源:AC100V ○装置重量:約25kg ○サンプル基盤:Siウェハ・ガラス基板 ○飼料寸法:20×20mm
    用途/実績例
    ウェハ及びガラス上へのパターン成形
    ナノインプリント装置ナノインプリント装置
    概要
    熱硬化方式と光硬化方式の両方の方式を 1台で実現でする、ナノインプリント装置 【特徴】 ○数10nm〜数100nmの極微細加工した  金型を樹脂や硝子に押し付け、短時間に同一形状の部品を大量に作り出す ○熱により軟化させ更に冷却し硬化させる熱硬化方式と  UV工化樹脂を使用しUV光により硬化させる光硬化方式を1台の装置で実現 ○必要とされる条件を設定でき  PCへそれぞれの条件の測定及び側定結果が記録できる ○プレス/剥離速度:1〜1000μm/sec ○最大荷重:1000Kg(総圧) ○温度:室温〜250℃ ○ワークサイズ:50×50mm
    用途/実績例
    ナノインプリント装置 Model TM-04ナノインプリント装置 Model TM-04
    概要
    光硬化方式ので電源も必要ないナノインプリント装置 【特徴】 ○数10nm〜数100nmの極微細加工した  金型を樹脂や硝子に押し付け、短時間に同一形状の部品を大量に作り出す ○熱により軟化させ更に冷却し硬化させる熱硬化方式と  UV工化樹脂を使用しUV光により硬化させる光硬化方式を1台の装置で実現 ○必要とされる条件を設定でき  PCへそれぞれの条件の測定及び側定結果が記録できる ○プレス/剥離速度:1〜1000μm/sec ○最大荷重:1000Kg(総圧) ○温度:室温〜250℃ ○ワークサイズ:50×50mm
    用途/実績例
    ウェハ又はガラス上にナノパターンを形成できる。