半導体用マスク描画装置SLXを2台受注

マイクロニックテクノロジーズ株式会社は、フォトマスク描画装置SLXを
アジア地域の既存顧客から2台受注したことを発表しました。
受注金額の価格帯は1,000~1,200万USドルで、1台目は2023年第4四半期に、
2台目は2024年第1四半期に納入予定です。
レーザーマスク描画装置SLXは、半導体業界で需要が高まっている
フォトマスクに対応するとともに、今後予想される老朽化した装置の
置き換えおよび近代化のサイクルをサポートします。
半導体製造におけるフォトマスクの約70~75%がレーザーマスク描画装置によって
描画されており、その位置づけは今後更に重要になると言えます。
半導体用マスク描画装置SLXは、マイクロニックのディスプレイ用マスク
描画装置と同じ技術をベースにしています。

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