【Sonaer】プロダクトナビ5月号に掲載

均一塗布も、ピンポイントも…用途に応じて噴霧を最適化

Sonaer社が提供する「スプレーシェーパー（Spray Shapers）（空気搬送治具）」は、超音波スプレーノズルに取り付けて使用する補助装置で、微細な液滴の噴霧パターンを自在に制御するために設計されています。 これらのシェーパーは、医療機器のコーティングから電子部品の精密塗布、大面積への均一散布まで、幅広い用途に対応します。 圧縮空気やガスを少量導入することで、液滴の広がり方や集中度を調整できるのが最大の特長です。

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• その他理化学機器

無加圧で微粒子を噴霧！ピエゾセラミックの振動による霧化！！消費電力が小さくエネルギーコストが安い！！

ピエゾセラミックの振動による超音波がスプレーノズル（アトマイザー）に伝わり、そこで液体膜を振動させて極め細かい粒子を形成させて噴霧します。 加圧なしで液体が供給されて微細な粒子を噴霧させる事が出来ます。 流量は型式により異なりますが、最小流量10ml/min~最大100ml/min分の液体まで幅広く対応しています。 液体に圧力を加えない為、飛散や液体の跳ね返りが非常に少なく塗布液の無駄がなくなります。 また大掛りな塗装ブースも不要です。 設備投資とランニングコストの削減を実現します。 ※本商品はソニア社製超音波スプレーノズル専用アクセサリーです。

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1ml/min以下の極低流量用に設計

ソニア社製ステンレス製マイクロフィードチューブは、1ml/min以下の極低流量用に設計されています。 ※勿論1ml/min以上でも使用は可能です。 液体は均一な粒子径を形成されるチップ先端まで一切触れることなく通液します。 ※本商品はソニア社製超音波スプレーノズル専用のアクセサリーです。

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広角空気搬送冶具よりもより大きく広げる為の冶具

ダブテールスプレーシェーパー　　　　　 （Dove Tail Spray Shaper） ダブテールスプレーシェーパーは空気搬送冶具で、広角噴霧やフラックスコーティングをするのに最適です。NS及びWSタイプの全スプレーノズルで使用する事が出来ます。ダブテールスプレーシェーパーの位置を変える事で扇形のスプレーパターンから楕円形のスプレーパターンに変更する事が可能です。 ※本商品はソニア社製超音波スプレーノズル専用アクセサリーです。

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医薬関連用途等、ステンレスに与える影響の強い流体用として設計

ソニア社製PTFEフロロポリマー製マイクロフィードチューブは特に医薬関連用途等、ステンレスに与える影響の強い流体用として設計されています。 液体は衛生面や化学反応等の理由から完全に隔離されなければなりません。 ※本商品はソニア社製超音波スプレーノズル専用のアクセサリーです。

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超音波スプレーノズルから噴霧された粒子を広範囲に塗布させる為の冶具

広角型空気搬送冶具はガスや空気を使用してスプレー角度を広げる冶具です。 広角型空気搬送冶具はNarrow Spray型の60K50Tと130K50Tに装着可能です。 広角型空気搬送冶具の側面に空気供給口があります。 ガスや空気を注入する事でガスや空気が内部で循環して超音波スプレーノズルから噴霧された粒子が広がり、押 し出されます。 ガス量や空気量、圧力や超音波スプレーノズルの先端の調整により約100°までのスプレー角度を設ける事が出 来ます。 ※本商品はソニア社製超音波スプレーノズル専用のアクセサリーとなります。

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ソニア社製超音波粒子径発生器は液体を微細な粒子に変えます！

超音波粒子発生器は粘度の低い液体を細かい粒子状に変えます。超音波粒子発生器はわが社の小型の2.4MHzNOモデル241T、テフロンが塗布されたネブライザーを使用しています。この機器は、完全にマイコン化されユーザーが実際の粒子生成のための様々なアプリケーションを扱いながら機器に運転パラメーターをプログラムすることができます。前面パネルにはユーザーが粒子を0から出力全開の100％まで5％刻みで発生率を変化させることが可能なLCDが装備されています。小さな部品を塗布するような特殊な工程用として粒子が作られる槽（べセル）の外に出てゆく粒子を移動させるために流量を0-2cfmの間で変えることのできる装置が組み込まれています。このエアー源とすべての他の接続は簡単に取り外しのできる304SSフィッティングとテフロンO-リングが付いています。これは洗浄や外部からのガスの供給やバキュームなどに接続する設備に簡単に合わせられるように簡単取り外すことができます。304SS　Tee（テフロン塗布されたものもあります）は粒子をせき止めるようになっており少量のエアーフロー/ガス/バキュームが機器から粒子を動かすために使われます。

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微量でも、ムラなく、霧のように繊細なコーティング

マイクロフィードチューブは、超音波スプレーノズルに液体を供給するための高精度な流体制御部品で、特に微量液体の噴霧や医療・化学用途における繊細なコーティング工程に最適です。 流量は通常1ml/min以下で、極めて少量の液体を安定的に供給し、ノズル先端で微細な霧状に霧化されます。

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反応が早い液体を使用する為に設計され且つ短時間で撹拌させる事が出来る！

ソニア社製デュアルマイクロフィードチューブは反応が早い液体を使用する為に設計され且つ短時間で撹拌させる事が出来ます。 材質はステンレスです。 二又（デュアル）マイクロフィードチューブは液体供給口が2箇所あり、1つは上部、もう1つは側面にあります。 ※本商品はソニア社製超音波スプレーノズル専用アクセサリーです。

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正方形或いは長方形に噴霧させる為の空気搬送冶具

超音波スプレーノズルから噴霧された粒子径を正方形或いは長方形に噴霧させる為の空気搬送冶具です。 主な用途はコーティングに使用されます。 少量のガスや空気を加える事により正方形、長方形或いは平面の基板に塗布します。 ワークからの距離や搬送用のガスや空気の圧力を調整する事でソニア社製超音波スプレーノズルの噴霧形状を 様々な大きさや形状が得られます。 ※本商品はソニア社製超音波スプレーノズルの専用アクセサリーです。

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微細な粒子をピンポイントに焦点噴霧します！

ピンポイント型空気搬送治具は良質で微細な粒子を生成し、医療用コーティングおよびその他の小型精密機器へ均一に塗布することができます。 スプレー速度は遅く、高価な薬品を最小限で薄く塗布することに適しています。 医療精密器具のコーティングや製造用途だけでなく、ステントコーティングやカテーテルコーティングなどの使用に優れ、スプレー速度や粒子径を優れた再現性で提供し、また、塗布剤の消費を大きく削減します。 ※本商品はソニア社製超音波スプレーノズル専用アクセサリーです。

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均一に薄くコーティングできる皮下用溶剤搬送器です。

ソニアのハイポダーミックニードルスプレーアタッチメントは、正確で均一に薄くコーティングができ、比較的狭い範囲に良質で微細な粒子を生成します。 生体適合成の向上や薬品運搬だけでなく再狭窄および血栓症の防止に適しています。 目詰まりを防ぎ、低速度の塗布で均一な膜厚と密度を提供し、無駄な塗布を削減します。 ※本商品はソニア社製超音波スプレーノズル専用アクセサリーです。

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• ノズル
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ピエゾの振動で塗布液を霧化！無加圧で飛散・跳ね返りも少ない！幅広い流量に対応

ソニア社製『超音波スプレーノズル』は、ピエゾの振動を利用して液体を振動。 きめ細かい粒子を形成し、噴霧します。 流量10mL/minから100mL/minまでの液体に幅広く対応できるほか、 液体に圧力を加えないため、飛散・跳ね返りが少ないのも特長です。 塗布液のムダがなくなり、大掛かりなブースも不要。 塗布・加湿・消毒などの用途に適しています。 【特長】 ■目詰りしにくく、作業上の安全性が高い ■液体の流量に関係なく均一に超音波霧化 ■消費電力が小さくランニングコストが安い ■ワイドスプレー型、ナロースプレー型の2種類がございます。 ★実際に試せる、デモ機の貸出も実施中です★

• その他加工機械

レヒラー社のノズル技術とソノシス社の超音波技術のコラボ商品

水や薬剤などの液体を、まるで霧のように細かく噴霧できる装置をご存じですか？ SONOSYS（ソノシス）の超音波アトマイザーは、従来の圧縮空気式ノズルとは異なり、「超音波の力」で液体を繊細なミスト状に変えることができます。 SONOSYSの超音波アトマイザーは、次のような幅広い用途に対応しています： 製品や原材料の加湿（乾燥防止） 液体のガス置換や脱気 離型剤（型から製品をはがしやすくする液）の噴霧 混合・撹拌工程中の液体添加 消毒液の噴霧 ポイントは「空気を使わずに霧を作る」 従来の噴霧ノズルは、圧縮空気が必要だったため「音がうるさい」「エネルギーコストが高い」といった問題がありました。 しかし、超音波アトマイザーは空気を使わず、静かで省エネ。 しかも粒子が非常に細かいため、均一な加湿や噴霧が可能です。 最後に 「水や薬剤を静かに、均一にミスト化したい」「限られたスペースでも使いたい」そんなニーズをお持ちの方に、超音波アトマイザーは最適です。 工場、医療、研究、農業、様々な分野での活用が進んでいます。

• 超音波発振器
• ノズル
• コーティング機

ピエゾの振動により加圧なしで液体を霧化させて噴霧。消費電力や液の無駄を抑えて均一な塗布が可能

ピエゾセラミックの振動により超音波がノズルに伝わり、 液体膜を振動させ、きめ細かい粒子を形成、噴霧します。 最小流量10ml/分から最大流量100ml/分の液体まで幅広く対応しており、 全流量域での粒子径がほぼ一定です。 ◆製品特徴◆ ・液体を加圧せずに少ない電力で供給できるため、省エネ ・流量に関係なく均一霧化 ・全流量域での粒子径がほぼ一定 ・目詰まりしにくく、作業上の安全性が高い ・粒子の自己速度が遅いため、塗着効率が良い ・標準仕様の最大流量は100ml/分 ・操作周波数は20～130kHz（機種により異なります） ・ザウター粒子径は11.8～42μm（機種により異なります） ◆アクセサリー◆ 空気搬送治具を使うことで、塗布された微粒子（液滴）の噴霧形状を 自由自在に変える事が可能 ◆送液ポンプ◆ シリンジポンプ等を使って送液することで、精密制御が可能 ≪注目ポイント≫ デモ機の貸出も可能ですので、お気軽にお問い合わせください。 ※※超音波洗浄装置※※ ソノシス社は超音波洗浄装置の製造、販売もしています。

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• スプレー
• コーティング機

百聞は一見に如かずの超音波スプレーノズルの動画集

【Sonaer】超音波スプレーノズルの魅力を凝縮した公式動画集！ピエゾセラミックの振動で液体を微粒化し、無加圧で高精度な霧化を実現 省エネ・低コストで環境にも優しく、医療・工業・食品分野など幅広く活用可能 製品の特徴や使い方が一目でわかる実演映像が満載です。 導入検討中の方は必見！

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本風洞では、非常に強い台風の最大瞬間風速である50m/sの風を、 連続して流すことが可能です。 この能力により、モーターサイクルに限らず屋外で使用される製品全般にも 幅広く適用することができますので、 モーターサイクル＆エンジンカンパニーや川崎重工グループ以外のお客様の、 様々な試験にもご利用いただいています。 【川崎重工グループ以外の試験実施例のご紹介】 〇道路用信号機器 〇船舶用通信機器 〇鉄道用運行管理機器 〇太陽光発電機器 〇屋外設置通信機器 〇競技用自転車 〇EV(電動)バイク〈※1〉 〈※1〉株式会社モビテック様のEVバイク世界最高速チャレンジに、 本風洞設備をご利用頂きました。試験当日は、設計担当の方々をはじめ、 デザイナー様やライダー様により、様々な試験が行われました。 風洞試験についてまとめた資料を提供します。 ご希望の方は下記URLよりご請求ください！ https://www.ipros.jp/product/detail/2001504662

分散後に一度は均一に見えたスラリーでも、時間の経過とともに沈降や分離が発生し、品質が安定しないという課題は多くの現場で見られます。この現象は単なる撹拌不足ではなく、粒子の凝集状態や分散エネルギーの不足、さらには液中での粒子間相互作用などが複雑に影響しています。特にナノ粒子や高固形分スラリーでは、わずかな分散不良が沈降挙動に大きく影響し、製品性能のばらつきにつながります。また、バッチ処理では時間経過による状態変化を受けやすく、再現性の確保が難しくなります。沈降を抑制するためには、単に混合するのではなく、粒子を一次粒子レベルまで解砕し、均一に分散させることが重要です。さらに、インライン連続処理のように一定のせん断条件を維持することで、分散状態の安定化と品質の均一化を図ることが可能です。工程全体で分散状態を設計することが、沈降しない安定したスラリー製造の鍵となります。

平素より格別のご愛顧を賜り、誠にありがとうございます。 恐れ入りますが、下記の期間を休業とさせていただきます。 【休業期間】 2026年4月29日（水）～5月6日（水） 休業期間中にいただいたお問い合わせにつきましては、 5月7日（木）より順次対応いたします。 期間中はご不便をおかけいたしますが、 何卒ご理解のほどよろしくお願い申し上げます。 ※各種通販サイトでのご注文は、休業期間中も受け付けております。 ※商品の発送およびお問い合わせ対応は、5月7日（木）以降となります。

分散工程において、凝集が解消されない、沈降が発生する、粒度分布が安定しないといったトラブルは多くの現場で発生しています。これらの問題は装置の性能だけでなく、粒子特性や分散条件、工程設計の不整合によって引き起こされます。例えば、分散エネルギーが不足している場合、粒子は一次粒子まで解砕されず凝集が残存します。また、せん断条件や流動状態が適切でない場合、均一な分散が得られず、沈降や品質ばらつきの原因となります。特に高粘度系や高固形分スラリーでは、わずかな条件差が結果に大きく影響します。さらに、バッチ処理では混合ムラや滞留時間のばらつきにより、再現性の確保が難しくなります。これらの分散トラブルを解決するためには、単に装置を変更するのではなく、粒子特性・分散エネルギー・流動設計を含めたプロセス全体の最適化が重要です。インライン連続処理のように条件を一定に保つことで、安定した分散品質と再現性の確保が可能となります。

東京ビッグサイトにて開催されるFABEX2026に出展致します。 1．日時：2026年4月15日（水）～4月17日（金）全3日間 10:00～17:00開催（3日間共通） 2．会場：東京ビッグサイト　　ブース位置　 東2ホール　F-P31　 3．主な出展内容 メインテーマ：食の現場に届ける、大豆・ごま・米の力　～品質の違いが価値になる～ 是非、弊社ブースにお立ち寄りくださいますようよろしくお願い申し上げます。