イギリス PlasmaQuest リモートプラズマ イオンビームスパッタ装置 取り扱い開始

2024年4月より、ティー・ケイ・エス株式会社が日本総代理店となりました。
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加で高品位かつフレキシブルな成膜をする独自技術を特徴をする装置です。
イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。
複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜プロセスの構築など、幅広い研究に対応できる装置です。
これまでのスパッタ装置で成膜が難しいとされる強磁性体ターゲットや、金属ターゲットとセラミックターゲットなどの異物質Co-スパッタ研究など、先端材料研究やプロセス構築研究を強力にサポートする装置です。
卓越した能力により、太陽光発電、光学薄膜、電池材料、ウエアラブルディスプレイ、大容量記憶装置、MEMS、磁気ヘッド、薄膜ヘッド、サーマルヘッド、スピントロニクス素材、ホイスラー合金など先端素材の探索や成膜プロセス開発などに力を発揮します。

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