びわ湖環境ビジネスメッセ2017に出展します！！

排水・再利用など排水処理装置の新設・改修の事例が満載！高度な水処理からニッチな物までノウハウが詰まった事例集を公開

壽化工機の「排水処理装置の施工・導入事例集」は、 排水処理装置やクーラント排水処理装置、排水再利用装置など、 水処理設備の新設・改修の事例が満載の施工・導入事例集です。 高度な処理やニッチなものなど、様々な産業分野での施工・導入事例をおまとめしています。 【壽化工機：排水処理設備の特徴】 ■高度なものからニッチなもの、様々な産業分野の排水に対応できる ■生物処理、イオン技術など現場に合わせた処理方法をご提案 ■新設・改修どちらにも柔軟に対応可能 ※導入事例集は［PDFダウンロード］からスグにご確認いただけます。 　その他詳細はお気軽にお問い合わせください。

• 廃液/排水処理装置
• その他水処理装置

紫外線ランプによるさまざまな流水の殺菌・有機物分解装置ステリラジカル。目的別に「殺菌」「超殺菌」「有機物分解」をラインナップ！

「ステリラジカルN」 　・連続点灯10、000時間以上の長寿命！ 　・ランプ本数交換頻度低減 　・他社装置に比べ本数が少ないため大水量処理に有利！ 　・耐塩素耐熱芽胞菌をベースに装置設計 「ステリラジカルS」 　・紫外線の波長により次亜塩素ナトリウムをラジカル化し、超殺菌を実現！ 　・Nシリーズよりも、さらに本数を減らし殺菌能力を高めました 　・超殺菌により殺菌後の光回復を抑制します。 　・再利用水の超殺菌有機物分解により、スライム増殖による膜の負荷を軽減します。 「ステリラジカルSS」 　・Sシリーズの効果に加え微量のオゾンを加えることで、超殺菌から有機物分解を実現！ 　・有機物分解を行うことにより、殺菌後の光回復をなくします。 　・後段の活性炭の寿命が大幅に延びます。 　・殺菌だけでなく、脱色、脱臭効果も抜群！ 　

• その他洗浄機

膜を通して澄んだ水を創る

膜ろ過処理は、精密ろ過（MF）、限外ろ過（UF）、逆浸透（RO）に分けられ、現在もっとも脚光を浴びている水処理技術の一つです。 従来の凝集・沈殿・砂ろ過のプロセスに比べ、装置のコンパクト化や処理水質の向上がなされ、海水淡水化や超純水の製造、排水の再利用に至るまでその応用範囲を広げています。 【特徴】 ○お客様の要求水質に合わせて機種選定します 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• その他水処理装置

汚染された水を浄化し環境に適合した水を創る目的に合わせ効率よく処理する

１．排水量増加による排水処理設備の処理量不足でお困りではありませんか。　 ２．水質が安定しないなど、排水の放流水質についてお困りではありませんか。 ３．工場生産量ＵＰによる排水処理設備の処理逼迫、放流基準遵守への対応方法などご相談ください。 ４．既設排水処理設備で除去しきれない物質でお困りではありませんか。 　　・新しい薬品を使い始めた。 　　・生産工程で新しい商品を作り始めた。など ５．老朽化した排水処理設備のリニューアルでお困りではありませんか。 　　・場所がない。より環境に配慮した設備にしたい。省エネ化したい。など 凝集・沈殿・浮上・吸着などの単位操作を効率よく組合せ、産業排水や病院、実験室・研究所等から排出されるさまざまな成分の排水を浄化し、汚染水から環境を守る装置です。 排水を処理するだけではなく更に高度な処理をし、再利用出来る水として限りある水資源を有効利用します。 【特徴】 ○排水の種類や処理基準に合わせて、各種の処理方法を組み合わせてもっとも　効率の良い処理をご提案 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• 廃液/排水処理装置

185nm+254nmのUVランプで難分解性有機物分解+殺菌！ 紫外線促進酸化装置の技術資料を進呈中！

壽化工機『紫外線促進酸化装置　A・O・P』は、 185nmと254nmの紫外線と酸化剤を組み合わせて「OHラジカル」を発生させることで、今まで除去が難しかった有機物の分解を効率よく促進できる装置です。 地下水処理では同時に発生するオゾンで完全な色度除去+殺菌が可能。 また排水処理では、後段の活性炭塔でOHラジカルによる再生反応により 活性炭の寿命を大幅に伸ばすことができます。 【こんなお悩みの方必見！】 ■RO・イオン交換への「負荷」を軽減したい！ ■井水の「色度」を除去したい！ ■排水放流前の「有機物濃度」を改善したい！ 落ち切らない有機物分解、処理水の清澄化を達成できる本装置がオススメです。 □■□■□■□■□■【技術資料無料進呈中！】□■□■□■□■□■□ ※今なら紫外線促進酸化装置 「A.O.P」に関する技術資料を無料進呈致します。 ※ご希望の方は「技術資料希望」と記載の上、お問い合わせください。 □■□■□■□■□■□■□■□■□■□■□■□■□■□■□■□■□ ※その他詳細はお問い合わせ、またはカタログダウンロードよりお問い合わせ下さい。

• その他水処理装置

[講　師] NTT株式会社 ネットワークサービスシステム研究所 ネットワーク基盤技術プロジェクト プロジェクトマネージャ 田村 藤嗣彦 氏 [重点講義内容] NTTが2019年に提唱したIOWN構想の中核を担う大容量・低遅延・低消費電力な光インフラであるAPN（All-Photonics Network）は、2023年にAPN IOWN1.0として商用サービスとして提供開始しました。現在、最大800Gbpsのユーザ拠点間で帯域保証型の通信サービスとして提供されており、APNは着実に進化を遂げています。 今後、AIやデータセンタの急速な発展や多様化するユーザニーズに対応するため、オンデマンドでEnd-to-Endでの光接続を面的に展開するAPN Step3の研究開発を進めています。本講演では、APN Step3の目指す世界、実現を支える技術、IGF（IOWN Global Forum）やITU-Tでの標準化活動や実証実験などの取り組みについて説明します。

[講　師] 株式会社ケミストリーキューブ 代表取締役 イノベーションコンサルタント 平木 肇 氏 [重点講義内容] 技術の棚卸は、単なる技術を書き出して分類したり、技術リストを作成すること、言い換えれば技術の在庫管理ではありません。技術を“構造”として見える化し、研究者自身の思考を再構成することで、R&D現場の戦略立案力・テーマ創出力を根本から高めるプロセスです。 本講演では、ケミストリーキューブが実践する技術構造化手法iMapRを用い、技術がどのように価値を生み、組織横断で活用される状態を生み出すのかを解説します。また、生成AIと技術者・研究者が協働することで、棚卸のスピードや質がどのように高まるのかも解説します。R&Dの変革を加速させたい経営者・技術リーダーに必見の内容です。 [講演項目] １．導入 ２．技術の棚卸とは何か ３．技術の棚卸がR&D現場を変える ４．技術構造化手法iMapRの実践 ５．生成AI時代の技術棚卸 ６．R&D現場での展開に向けて ７．質疑応答／名刺交換

防災・減災の取り組みを広げ、地域の安全を守るための情報発信と交流の場―― 「仙台防災未来フォーラム2026」に、当社も参加します。 今回、車両展示コーナーでは、災害時の現場対応を支える「多機能車両サクラ」の実車展示により活用事例をご紹介します。 停電や断水など、非常時に求められる機能を備えた車両を通じて、“現場で本当に役立つ防災のあり方”を考えるきっかけをお届けします。 防災の未来を一緒に描くこのフォーラムで、ぜひ私たちの取り組みをご覧ください。 日時：2026年3月14日(土) 9:30~16:30 会場：仙台国際センター 皆さまのご来場を心よりお待ちしています。

ANA整備部門のノウハウを凝縮した「ヒューマンエラー対策研修」のプログラム説明会を、2026年2月に東京（品川）、3月に大阪（梅田）にて参加無料で開催いたします。 今回のプログラム説明会では、基礎コースに加え、ステップアップコースや、経営層向けの講演、新入社員・若手向けの研修など、多様なラインアップをご紹介いたします。当日は実際に「ヒューマンエラー対策研修」に登壇している講師からのプログラム説明に加えて、ワークやクイズも体感していただけます。 説明会終了後にはご希望に応じて個別相談も承りますので、この機会にぜひご参加ください。 【このような課題やお悩みを抱えている企業・団体様におすすめです】 ・具体的なヒューマンエラー対策の手法がわからず、注意喚起にとどまったり、効率的な対策ができていない ・ヒューマンエラーに起因するミスを減らすだけでなく、組織全体の安全や品質レベルを向上させたい ・経営層や管理者が、現場のエラーを減らすための「仕組み」の作り方を体系的に学びたい

福島県ハイテクプラザ主催 ワークショップのお知らせです。 　　　製造業のこれからを創る：課題解決ワークショップ 　　 ～現場の課題を見つけ、解決するアプローチを学ぶ～ 生成AI、気になっているけどまだ踏み出せていない——その一歩を一緒に。 “安全に、賢く、現場で使える”AI活用の基礎と、課題解決の型を2.5時間で身につける集中ワークショップを開催します。 ＜こんな方におすすめ＞ ・日々の「ちょっと不便」「なんとなく非効率」をAIで解消したい ・生成AIの基本と安全な使い方を短時間でキャッチアップしたい ・業種・職種不問。チームで手を動かし、具体的なアウトプットまで体験したい ＜得られること＞ ・問題発見 → 定義 → 可視化 → 解決案まで、現場起点の課題解決の型を体験 ・生成AIのプロンプト基礎とリスク対策（著作権・機密・ハルシネーション）を実務目線で習得 ・グループワークで、明日から使える改善アイデアを持ち帰り ＜持ち物・服装＞ 　特にございません。服装も自由です。お気軽にご参加ください。 皆様のご参加を心よりお待ちしております！