真空・各種ガス雰囲気での高温アニール装置で、赤外線加熱による急速昇温、クリーン加熱が簡単にできます。
・円筒上真空チャンバー外周には、８個の真空ポートがついた拡張性の高い真空チャンバーを採用。 ・上面が大きく開き、試料の設置・取出し作業が容易にできる。
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基本情報
最高昇温速度 150℃/sec、加熱時間 1500℃まで約1min 熱源からの放出ガスや電磁誘導の影響を与えないクリーン加熱 高温の試料を観察できるオプションも用意しています。
価格情報
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納期
※2.5ヶ月
用途／実績例
真空中／ガスフロー中での試料アニール シリコン、SiC等半導体試料や酸化物の熱処理 グラフェン、CNTの加熱 高耐熱金属、セラミックス等超高温材料の昇温試験 酸素、水素等のガスフロー中アニール 濡れ性試験
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企業情報
1982年「熱」この課題で会社創立、以来今日まで新材料物質の研究開発には欠かせない熱処理工程、他社に無い独自の熱技術を駆使し研究開発用熱処理機器の開発・販売を進めてきました。とりわけ赤外線導入加熱装置は超高真空システム内試験試料の「新しい加熱方式」として大変注目され、全国の理工系大学、独立行政法人研究所、民間研究開発部、海外の大学等で数多く使用され、現在700台以上、各種の熱処理装置合計で3000台以上の納入実績があります。
