電子、複合、構造、先進材料の熱処理装置。1800℃まで30秒で急速昇温。真空・ガスフロー雰囲気中での超高速昇温。消費電力2kW
・独自のガスフロー機構の採用で試験材料に直接ガスを放射、昇温。 ・卓上型で操作性も向上させた低価格製品。 ・より多くの研究者にお使いいただける製品です。
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基本情報
最高到達温度：1800℃ 最大昇温速度 300℃/sec 電気容量わずか2kW 真空、ガス、雰囲気中
価格情報
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納期
※2.5ヶ月
用途／実績例
グラフェン/SiC活性化熱処理 SiC活性化熱処理 超高温材料の加熱 電子材料のヒートサイクル試験
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企業情報
1982年「熱」この課題で会社創立、以来今日まで新材料物質の研究開発には欠かせない熱処理工程、他社に無い独自の熱技術を駆使し研究開発用熱処理機器の開発・販売を進めてきました。とりわけ赤外線導入加熱装置は超高真空システム内試験試料の「新しい加熱方式」として大変注目され、全国の理工系大学、独立行政法人研究所、民間研究開発部、海外の大学等で数多く使用され、現在700台以上、各種の熱処理装置合計で3000台以上の納入実績があります。