新機能性薄膜開発に、次世代表面保護膜開発に
スパッタやプラズマCVDでは得られない、高品質膜を実現！ SPS装置（通電燒結装置）との組合せで、自在に薄膜開発が可能に！ 想いのターゲット製作から成膜実験までを、1日で可能に！ クリーン真空アークプラズマを用いたリアルイオンプレーティング
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基本情報
生産用フィルタードアーク蒸着装置 開発用小型フィルタードアーク蒸着装置：μT-FAD ta-C膜、水素フリーDLC他各種DLCを成膜可能 金属膜、合金膜、窒化物、酸化物その他化合物膜に対応 ドロップレットフリー、超平滑膜形成、超薄膜形成
価格情報
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納期
※受注後10ヶ月
用途／実績例
ガラスレンズ成型金型離型膜の開発 アルミ合金・難切削材料切削工具用薄膜開発
企業情報
IT化が加速し、より高度な技術が求められる21世紀の社会と産業において、ガスへの期待はますます広がっています。生産環境に欠かせないバルクガスから超高純度を要求される半導体・液晶用ガスまで。私たちは、生産工程の各場面で必要不可欠である多種多様なガス資源を安定かつ安全にご提供し、産業の発展を支える総合的な販売・供給体制を確立しています。