ロール to ロール式 フィルム洗浄装置・金属箔表面処理装置です。 光学フィルムや蓄電デバイス材料の製造工程で使用されます。
・TAB/COFなどのフィルムキャリアテープ洗浄 ・特殊光学フィルム洗浄 ・蓄電デバイス用金属箔材料の表面処理 表層に積層物がある特殊フィルム基材や 蓄電デバイスの集電体などで使用されている 金属箔の表面処理をロールtoロール方式で 連続的に処理するウエット処理装置です。 近年注目されている2次電池用部材の開発用、 ドライ洗浄機では除去が困難な付着物の洗浄など ラボレベルから量産設備まで対応可能です。
この製品へのお問い合わせ
基本情報
【フィルム洗浄装置】 フィルム形状の基材をロールツーロール方式で 連続的に洗浄・水切・乾燥する洗浄機です。 ブラシスクラブ洗浄・アルカリ洗浄などにも対応できます。 35ミリ〜1800ミリ幅材料まで製作実績があります。 エンボスフィルムやプロジェクションスクリーン用フィルムなどの 特殊基材も対応可能です。 【金属箔表面処理装置】 キャパシタやリチウムイオン2次電池の集電体などで 使用されている金属箔の表面処理装置です。 10~30μmの金属箔の処理において ダメージを与えない加工設備が提案可能です。 箔表面を改質することでデバイスの特性を 大幅に改善することが可能です。 研究開発用・パイロットラインから量産設備まで プロセス開発を含めてご協力いたします。
価格情報
500~5,000万円 装置規模によります。 装置規模によって価格が変動します。詳細はお問合せください。
価格帯
1000万円 ~ 5000万円
納期
用途/実績例
1.電子部品実装用キャリアテープの洗浄。 2.光学用フィルム基材の仕上げ洗浄。 3.スリッタ加工後のフィルム基材のバリ・異物洗浄。 4.フィルム塗工程前・グラビア印刷前の洗浄。 5.蓄電デバイス集電体用金属箔の表面処理。 6.蒸着フィルム・加飾フィルムの表面処理。
詳細情報
-
R2R フィルム洗浄装置 (2連) ブラシスクラブ洗浄+高圧洗浄機構を備えた洗浄装置です。 250mm幅フィルム基材を2連同時に洗浄処理します。 処理速度 標準 毎分10 m 自動張力制御・EPC機能を備えています。
-
R2R ITOフィルム洗浄装置 透明導電膜付フィルムの洗浄装置です。 最大 550 mm 幅の基材に対応しています。 感光性レジスト塗布・ラミネート前洗浄や 最終工程の仕上げ洗浄で使用されています。
-
R2R フィルム洗浄装置(2連) 最大 200mm 幅のフィルム基材の洗浄装置です。 2連同時に処理することが可能です。 ブラシスクラブ洗浄タイプの装置です。
-
金属箔電解研磨装置 金属箔の電解研磨処理をおこなう装置です。 電解研磨以外の表面処理も対応可能です。
-
リール to リール 帯電防止洗浄装置 巻出・巻取にリールを使用したフィルム洗浄装置です。 基材に付着した汚れを洗浄した後、陽イオン系界面活性剤溶液で 帯電防止処理をおこなう装置です。
-
陽極酸化装置 アルミニウム箔の表面処理装置です。 アルミニウム以外の金属箔にも対応可能です。
-
1,800mm 幅対応 帯電防止洗浄装置 グラビア印刷前のフィルム洗浄装置です。 リアプロジェクションフィルム基材の様な 特殊な凹凸が形成されたフィルムに対応しています。
カタログ(2)
カタログをまとめてダウンロード企業情報
写真製版技術(フォトリソグラフィ)を基にした 各種表面処理装置の設計・製造販売をおこなっています。 特にロール to ロール処理方式の装置を得意としております。 【電子・電気デバイス業界向】 ・タッチパネル基板用 ウエット処理装置 ・プリント配線基板用 ウエット処理装置 ・TAB / COF / T-BGA等 テープ基材用 ウエット処理装置 ・FPD基板用 ウエット処理装置 ・蓄電デバイス用 ウエット処理装置 【印刷業界向】 ・印刷用製版装置