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最終更新日:2011年02月25日

ズース・マイクロテック株式会社
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全自動最大200mm対応

全面一括露光方式の当社製マスクアライナ・モジュールをドッキングさせることにより、リングラフィ・クラスタLithoFab200として使用可能

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【特徴】 ■全面一括露光方式の当社製マスクアライナ・モジュールをドッキング   させることにより、リングラフィ・クラスタLithoFab200として使用可能 ■優れた厚膜レジスト処理機能 ■GYRSET方式のフタ回転式コーティング技術 □その他詳細についてはカタログをご覧ください

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この製品に関するニュース(1)

SUSS Japan Seminar in 2012_1

【終了しました】SUSS Japan Seminar in 2012を開催いたします。

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2012年12月4日(火),ハイアット リージェンシー 東京(新宿)にて,SUSS Japan Seminar in 2012を開催いたします。本年は,フォトマスクセクション『Mask Integrity Challenges – Path to NGL Production』、及び 3Dセクション『3Dインテグレーション技術の現状と動向』、2つのセミナーを並行して開催いたします。是非ご参加下さいますようお願い申し上げます。 【会期】2012 年 12月 4日(火) 【場所】ハイアットリージェンシー 東京 27F 【一般参加費】¥5,000 【詳細・申込方法】http://www.suss.com/jp.html ■フォトマスクセクション『Mask Integrity Challenges – Path to NGL Production』 【開催時間】10:00- 17:10 【定員】100名 ■3Dセクション『3Dインテグレーション技術の現状と動向』 【開催時間】10:30- 17:10 【定員】100名 ■合同レセプション 17:15-19:00

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ズース マイクロテックは、半導体産業とその関連市場で70年以上にわたるエンジニアリングの経験を誇る微細構造加工装置の世界有数のサプライヤーです。 当社では、半導体後処理工程のリソグラフィ、ウエハ接合、およびフォトマスク処理のための幅広い製品とソリューション、およびそれに付帯するマイクロオプティクスコンポーネントを幅広く取り扱っています。 ズース マイクロテックは,MEMS,LED,先端パッケージング,三次元積層,パワー半導体,ナノテクノロジー等の市場において,優れたパフォーマンス/費用対効果,特殊仕様品への対応に加え,多様かつ急速に変化する製造環境にも柔軟に対応できる装置を提供し続けています。

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