ＭＥＭＳ製造の犠牲層・光導波路などへ
無機フィルムの高速製膜装置。デモ実験など承っております。お気軽にご相談下さい。
この製品へのお問い合わせ
基本情報
【特徴】 ○ＰＥＮフィルム上に製膜 ○製膜速度：～1.5μm/min ○製膜温度：75℃～ ○段差被服性：良好 ○製膜種：無機合成膜 （SiO２膜の形成も可能） ●その他詳細についてはカタログをご覧頂くか、もしくはお問い合わせください。
価格情報
お気軽にお問い合わせください。
納期
※お気軽にお問い合わせください。
用途／実績例
【用途】 ○ＭＥＭＳ製造の犠牲層 ○マスク材として ○ポリカーボネートの保護膜 ●その他詳細についてはカタログをご覧頂くか、もしくはお問い合わせください。
カタログ（1）
カタログをまとめてダウンロード
企業情報
魁半導体は2002年9月に京都工芸繊維大学発のベンチャー企業として設立。プラズマ技術を用いた表面改質装置や堆積装置の販売をおこなっている。2010年に発売した粉体プラズマ装置は高い技術力が評価され『関西フロントランナー大賞』『中小企業技術賞』を受賞する。 全国の大学・産総研・大手メーカー・R&D部門で多数導入実績有り。 実物(デモ機)に触れて頂いてからの販売を提案します。 また、レンタル・リースにより、お客様のご負担を軽減したご使用方法も提案致します。 半導体関連以外にも、色々な技術相談を承っております。 また、石英やパイレックスの加工・販売を小ロットから承っております。 半導体関連以外にも、色々な技術相談を承っております。 また、石英やパイレックスの加工・販売を小ロットから承っております。
