半導体製造プロセスは高密度、微細化の進展によりRTPが重要な加熱技術として注目されています。
MILA-5000シリーズは赤外線ゴールドイメージ炉の特長である高速加熱・冷却、クリーン加熱が行なえます。自在な雰囲気下で加熱する事が可能で温度コントローラと雰囲気可変チャンバが一体化した小型で低価格な赤外線ランプ加熱装置です。 加熱操作をUSB接続によりパソコン上で行なえ、手軽にデータ管理出来ます。
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基本情報
【特長】 ○真空中、ガス中、ガスフロー中、大気中と任意の雰囲気選択 ○精密な温度コントロール ○卓上型でコンパクトな設計 ○お手持ちのパソコンから温度プログラム設定や外部信号の入力が、簡単に実行可能 ○加熱中の温度データをパソコン上に表示する事が可能 ●その他機能や詳細についてはお問い合わせください。
価格情報
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納期
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用途／実績例
【用途】 ○強誘電体薄膜の結晶アニール ○イオン注入後の拡散アニール、酸化膜生成アニール ○Si、化合物ウェハのシンタリング、アロイング処理 ○ガラス基板の均熱アニール ○熱サイクル、熱衝撃、熱疲労試験 ○昇温脱理試験用加熱炉 ○触媒効果試験 ●その他用途や詳細についてはお問い合わせください。
詳細情報
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【オプション】試料観察用CCDカメラユニット 加熱中の試料を観察 試料観察用CCD カメラユニットを取り付ければ、加熱時の試料の変化をパソコンに取り込めます。
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【オプション】電気抵抗測定ユニット 熱処理しながら電気抵抗率測定 電気抵抗測定ユニットに差し替え、お手持ちのデジタルマルチメータにつなぐだけで、加熱しながら電気抵抗率の測定が可能です。
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【オプション】液体窒素ミスト急速冷却ユニット 液体窒素ミスト吹き付けによる急速冷却 1000℃から0℃まで、わずか2秒で急冷ができます。
ラインアップ（3）
| 型番 | 概要 |
|---|---|
| MILA-5000-P-F | 【均熱型】温度範囲：RT ～ 800℃ |
| MILA-5000-P-N | 【高温型】温度範囲：RT ～ 1200℃ |
| MILA-5000-UHV | 【高温・高真空型】温度範囲：RT ～ 1000℃ |
企業情報
アドバンス理工は創業以来、お客様第一主義の精神に基づき、極低温から超高温の広い温度領域での熱物性測定装置と赤外線加熱冷却システムを中心に、熱の総合技術で日本および世界の科学技術の発展と生産活動に貢献して参りました。 より良い製品を、より早く、より安く、最高のサービスをもって提供する。常に変わらぬ企業理念のもと、お客様に最高の製品とサービスを提供し、お客様、そして社会にとって価値のある企業であり続けるために、アドバンス理工はたゆまぬ努力を続け、全力で取り組んでまいります。
