吸着しながら、加熱・冷却実験が可能!!
吸着しながら加熱実験(プローブ実験、加熱耐久実験等)を行えるユニットとなります。その他、ウェーハマウンターなどにも応用が期待されています。加熱温度としては、最大で250℃の加熱ができ、冷却機能を持たせているため、大気冷却より急勾配での冷却を行うことも可能であります。
吸着しながら加熱実験(プローブ実験、加熱耐久実験等)を行えるユニットとなります。その他、ウェーハマウンターなどにも応用が期待されています。加熱温度としては、最大で250℃の加熱ができ、冷却機能を持たせているため、大気冷却より急勾配での冷却を行うことも可能であります。
・加熱冷却の繰り返しで耐久試験などに最適 ・ポーラスチャックをネジ止めするだけのシンプル構造 ・各種サイズにも対応可能
50万円 ~ 100万円
・ウエハーレベルでのボンディング ・真空中での半導体製造プロセス ・熱硬化によるウェハーの貼り合わせ技術 ・ウエハーの通電テスト
お客様との会話を通して"こんなものが欲しい"を形に致します。お客様で図面が作成出来なくてもお客様のアイデアを伺いながら当社スタッフが図面作成も行います。 当社は設計から製造、納品までの一貫体制を整えています。