塗布ユニット/現象ユニット搭載。2''～8''ウェーハの簡易切換え可。
自動レジスト塗布・現像・ベーク装置LITHOTRACシリーズは弊社独自に、研究開発用途から量産用途まで、ウエーハ製造プロセスのあらゆる部門に適応可能な装置開発を進めてきたレジスト塗布・現像・ベーク装置です。お客様のご要望に適応した自由度の高い設計に努め、もはや仕様のカスタマイズは特別注文ではないという設計思想が、多くのお客様からご好評をいただいております。詳しくはお問い合わせください。
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基本情報
【主な特徴】 ○スピン塗布ユニット/スピン現象ユニット搭載 ○2'～8インチ'ウェーハの簡易切換え可 ○各種塗布材料や現像液毎に仕様を提案 ○研究開発用途や量産の両方に対応した仕様 ○300mmウェーハ、FOUPロードポート対応 【リソトラックライナップ】 ○LITHOTRAC CB-50（全自動コーター・ベーク） 塗布精度の向上を目的としたオプションとして、塗布室の雰囲気温湿調、レジスト温調などの各種温度制御機器を搭載することが可能です。 ○LITHOTRAC DB-50（全自動現像ベーク） 現像精度の向上を目的としたオプションとして、現像液温調などの各種温度制御機器を搭載することが可能です。 ○LITHOTRAC Dual-1000（全自動コーター・現像・ベーク装置） スピン塗布ユニット/スピン現象ユニットを混載させたモデルです。 ●詳しくはお問い合わせください。
価格情報
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企業情報
リソテックジャパンは、創設以来リソグラフィのスペシャリストとして、レジスト露光/現像解析装置、レジストコータ/デベロッパ、リソグラフィシミュレータに加え、最先端リソグラフィプロセス向けに露光/現像材料評価等もご提供しております。 特にレジスト処理装置では、スピン塗布コータ、デベロッパ、ベーク（PEB)装置、膜厚測定等を様々な分野に適応させて、開発用実験装置から生産用全自動システムまでご要望に応じた最適な仕様をご提案しています。 例えば、極薄シリコンウェーハ / 各種化合物半導体 / 石英 / サファイヤ / 圧電基板(SAW)等の各種基板に対しての、ArFレジスト / EBレジスト / 高粘度厚膜レジスト / ポリイミド / 絶縁膜 / ワックス等の塗布装置やアルカリ / 無機/有機等の現像装置をラインナップしています。 その他に、HMDS処理 / 真空減圧ベーク / UV照射 / 高温ベーク処理等各種プロセスユニットを用意しています。