★高精度技術が求められる光学レンズ、光学フィルムなどのオプト材料へのナノインプリントの反射防止加工のノウハウ!
講 師 第1部 アイトリックス株式会社 ご担当者 様 第2部 首都大学東京大学院 都市環境科学研究科 分子応用化学域 助教 博士(工学) 柳下 崇 氏 第3部 東京理科大学 基礎工学部 電子応用工学科 准教授 谷口 淳 氏 対 象 微細加工、ナノインプリント、光学部材に関心のある研究者・担当者など 会 場 東京中央区立産業会館 4F 第4集会室【東京・日本橋】 都営新宿線 馬喰横山駅 地下通路経由 B4出口 5分 (道案内2) JR総武快速線 馬喰町駅 東口改札経由 C1出口 5分 (道案内3) ほか 日 時 平成23年12月21日(水) 11:00-16:00 定 員 20名 ※お申込みが殺到する恐れがあります、お早めにお申し込みください。 聴講料 【早期割引価格】1社2名まで51,450円(税込、昼食、テキスト費用を含む) ※但し12月7日までにお申込いただいたTech-Zone会員に限る。会員登録は無料 ※12月7日を過ぎると【定価】1社2名まで54,600円(税込、テキスト費用を含む) となります
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基本情報
【２講演主旨】 サイズの均一な細孔が規則配列したナノホールアレー構造である陽極酸化ポーラスアルミナの作製とナノインプリント用モールドへの適用,さらにはナノインプリントプロセスで作製したポリマーや無機材料からなるナノ規則構造を光機能デバイスへ応用した結果について我々の最近の研究成果の紹介を行う。 【３講演主旨】 ナノインプリント技術は、樹脂への転写だけでなく金属への転写も可能となってきており、プリンテッド・エレクトロニクスなどへの応用も可能となってきております。しかし、ここで問題となってくるのが、離型時の金型への樹脂等の付着になります。本講では、離型時のトラブルと評価方法を概説して解決方法を示します。
価格帯
1万円 ~ 10万円
納期
2・3日
用途／実績例
【プログラム】 1.高規則性ポーラスアルミナの形成 1-1 自己組織化プロセスによる高規則性ポーラスアルミナの形成 1-2 テクスチャリングプロセスにもとづく理想配列ポーラスアルミナの作製 2.高規則性ポーラスアルミナを用いたナノインプリント用モールドの作製 2-1 ポーラスアルミナモールドの作製 2-2 めっきプロセスによるメタルモールドの作製 3.高規則性ポーラスアルミナを用いたナノインプリントによるナノ規則構造の形成 3-1 ポリマーナノ構造の形成 3-2 無機系材料からなるナノ構造の形成 3-3 曲面へのナノ構造の形成 3-4 ロール状モールドを用いた連続賦形 4.ナノインプリントプロセスによる光機能デバイスの作製 4-1 フォトニック結晶の作製と評価 4-2 反射防止構造の作製と評価 4-3 構造制御にともなう反射防止特性の最適化
企業情報
弊社は、化学、エレクトロニクス、自動車、エネルギー、医療機器、食品、建材など、幅広い分野のR&Dを担うクライアントのために、「セミナー企画」に始まった事業領域を「講師派遣」「出版企画」「技術コンサルタント派遣」「動向調査」「ビジネスマッチング」「事業開発コンサルティング」といった様々な事業形態(新事業)に展開することで、ここまで企業を発展させ、新たな市場を開拓してきました。AndTechはこれからも、クライアントの声に耳を傾け、クライアントが望む事業領域・市場に進出して、共に悩み、共に考え、共に道を切り拓く企業として、クライアントに愛される意味を見失わないことをお約束いたします。