コーティング困難な凹凸デバイスへ、フォトレジストの薄膜塗布を可能とした、微粒子積層法（スプレーコーティング法）を提案。
凹凸立体形状のMEMSデバイスへ、フォトレジスト薄膜のコーティング試作をしています。数枚から大ロットまでフォトレジスト薄膜形成の試作をご提案しております。 凹凸・立体（３D）形状に対してのレジスト塗布方法に問題を抱え、お困りでしたら、是非ご相談ください。 お客様の「レンタル試作課」として日々開発支援活動をしています。 つくば産業技術総合研究所様や横浜国立大学様、信州大学様とも技術連携し、研究機関や民間企業へ試作支援をしています。 また、MEMS製造業界へは装置提案やコンサルタントなど数多くの実績を有しています。 現在、湘南藤沢研究所で活動をしています。 ※下記、弊社ホームページ内のお問合せページから、ご連絡・お尋ね・ご相談ください。
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基本情報
【特長】 ・スプレーコータ装置の購入なしで、研究開発を進められる。 ・研究開発のスピードアップ。 ・無駄な開発投資を省くことができる。 ・長年の弊社データベースをもとに機能膜塗布をご提案。 ・開発や新プロセスの問題点をコンサル。 ・特殊機能膜の塗布加工サービス（薄膜形成試作・開発支援）をご提案。 ・特殊機能膜をコーティング液から調合し薄膜を形成することも可能。 ・稀少材料の試作として１cc からでも塗布が可能。 ・薄膜プロセスの総合的研究開発の受託も可能。 ・必要に応じ、必要な装置のご提案。 ●詳しくはお問い合わせください。
価格情報
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用途／実績例
【用途】 ○フォトレジストコーティング（凹凸ＭＥＭＳ製造） ○撥水膜コーティング ○燃料電池触媒膜コーティング ○導電性材料コーティング ○PEDOT膜コーティング ○アルコキシド（ガラス膜）膜コーティング ○絶縁材料コーティング ○空気抵抗最小限膜コーティング ○超耐熱膜コーティング ○親水膜コーティング ○LED膜コーティング ○蛍光体コーティング ○ナノカーボン材料コーティング ○太陽電池用各種膜コーティング ○その他
企業情報
コーティング技術と特殊テクノロジーで未来に貢献します。技術革新に主眼を置き、現在、つくば産業技術総合研究所様、横浜国立大学様、山梨大学様、信州大学様、神奈川産業技術センター様と技術連携をしております。企業の特殊コーティング試作、プロセス開発、コンサルタントをはじめ、数々の研究＆開発テーマで活動をしております。提案内容は、新規機能、研究開発時間の短縮、品質、機能アップ、開発コストの削減を目的としています。周辺技術と共にソリューションでご提案しご好評を頂いています。研究テーマ・開発テーマ・検討テーマがございましたら、ご連絡をお待ち申し上げております。