完全に溶融された粒子だけが噴射されるため、粒子間結合力が高い
ロッドタイプ溶射材料はローカイド溶射に使用します。完全に溶融された粒子だけが噴射されるため、粒子間結合力が高く、過酷な条件下でも期待通りの特性を十二分に示します。材料名はR-Aです。主成分はAl2O3です。皮膜特性は電気絶縁性も高く、高温電気絶縁分野での主役。詳しくはカタログをダウンロードしてください。
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【特長】 ○ローカイド溶射に使用 ○完全に溶融された粒子だけが噴射される ○粒子間結合力が高い ○過酷な条件下でも期待通りの特性を十二分に示す ○材料名:R-A →主成分:Al2O3 →皮膜特性:電気絶縁性も高く、高温電気絶縁分野での主役 ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをダウンロードしてください。
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セラミック溶射の基幹技術ローカイドプロセスを日本で最初に導入しロケット開発を支えて以来半世紀、NCIは常にローカイドプロセスを追求しセラミック溶射をリードし進化させてきました。 ローカイドプロセスのノウハウがあればこそプラズマ・ハイブリッド・高速フレーム・表面パターンなど突出した機能と品質の提供が可能です。 NCIの溶射技術は先端技術分野でも幅広く利用されておりNCIならではの質の高いソリューションを提供しています。