粒子間結合力の高い皮膜が得られる！母材への熱影響がより少なくて済みます
当社で行っている「ローカイド溶射」についてご紹介いたします。 溶融熱源に酸素－アセチレン炎を使用し、棒状に焼結加工された溶射材料を 利用する方式で、溶融温度は、約3000℃。 完全に溶融された粒子だけを、エアジェット流で加速・噴射し、装置の自由度が 高く、複雑な形状の母材にピンスポットで溶射できる利点があります。 【特長】 ■完全に溶融されたセラミック粒子だけが噴射されるため、粒子間結合力の 高い皮膜が得られる ■溶融温度がプラズマ溶射法よりも低温で、母材への熱影響がより少なくて済む ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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セラミック溶射の基幹技術ローカイドプロセスを日本で最初に導入し、 ロケット開発を支えて以来半世紀、NCIは常にローカイドプロセスを 追求しセラミック溶射をリードし進化させてきました。 ローカイドプロセスのノウハウがあればこそプラズマ・ ハイブリッド・高速フレーム・表面パターンなど突出した機能と品質の提供が可能です。 NCIの溶射技術は先端技術分野でも幅広く利用されており NCIならではの質の高いソリューションを提供しています。
