3次元実装用マニュアルタイプのウエハケミカル洗浄装置です！
処理枚数は1-3枚の少量対応の為、研究・実験の用途に最適です。 100V電源で設置に制約がありません。 コンパクトなので１ｍ2（平方メートル）あれば設置可能と経済的です。 純水リンスはカスケード方式による純水使用量を抑えた低コストです。 ケミカル温度をコントロールが可能です。 比抵抗計によりリンス効果を判断します。 ウエハカセットは傾斜を持たせ、ウエハ表面側に液残留を防止します。 将来、２槽（下部タンク共）追加可能なスペースを確保しています。 エアーガン付です。 シャワーノズルでケミカル槽を簡単洗浄出来ます。
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基本情報
・装置寸法：W1300×D1150×H2110 ・電源：AC100V 30A ・ケミカル槽：２種類のケミカルに対応 ・槽容量は９ℓ 下部タンクと循環方式 純水リンス：カスケード方式による ２段リンス 最終槽に比抵抗計を装備 ・ケミカルタンク：温調装置 液面センサー付 ・液受用シンク：エアーガン付 ・装置内ケミカル槽シャワーノズル付
価格情報
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価格帯
500万円 ~ 1000万円
納期
※受注後3ヶ月
用途／実績例
3次元実装用8インチウエハのマニュアル型洗浄装置
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企業情報
2009年7月経済産業省より中小企業ものづくり基盤技術の高度化に関する研究開発計画の認定を受ける。 2010年6月太陽電池用ガラスエッチングについて、産業技術総合研究所と共同開発を開始 2011年2月3次元半導体研究センターに8インチケミカル洗浄装置を受注搬入 2011年7月埼玉県より次世代産業参入支援事業受託 2011年11月アルカリスピンエッチング装置開発。 仕様：大型基盤用（300角） 2012年2月埼玉県次世代産業参入支援事業終了 2012年4月太陽電池用シリコンウエハセパレーター新開発。