高微細化、低コスト、高スループットのナノインプリントリソグラフィー
簡易型UVナノインプリント装置 ImpFlex Essentialは、従来のフォトリソグラフィーに比べ、高微細化、低コスト、高スループットで次世代の微細加工技術として注目を集めるナノインプリントリソグラフィー。本装置は上位機種であるImpflexをベースに徹底的なコストダウンを行った低価格モデルの装置です。低価格でありながら低残膜と膜厚均一化を実現するインプリントエンジンは上位継承してい ます。モールド材料は石英、Ni電鋳棟の他の材料もオプションにより使用可能です。光学デバイス、MEMS（NEMS）、光通信デバイス、回折格子、マイクロレンズ、マイクロ流体デバイス、DNA解析用バイオチップ等さまざまな分野でご利用頂ける実験装置です。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
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基本情報
【特徴】 ○低残膜、残膜厚均一性の高いImpflexと共通のインプリントエンジン搭載 ○徹底的なコストダウンにより低価格を実現 ○必要最小限の構成から豊富なオプションによりアップグレートが可能 ○多種モールドによる対応可能 →石英、Ni電鋳棟の他の材料もオプションにより使用可能 ○UV-LED光源によるUV照射 ○バブル消去ガスプロセス対応 ○従来のフォトリソグラフィーに比べ、高微細化、低コスト、高スループット ○さまざまな分野で利用可能な実験装置 →光学デバイス、MEMS（NEMS）、光通信デバイス、回折格子 →マイクロレンズ、マイクロ流体デバイス、DNA解析用バイオチップ等 【仕様概要】 ○対応ウェハーサイズ：最大¢6インチ ○インプリント加重：最大1000N ○モールドサイズ：ロ10mm～90mm ○インプリントシーケンス：ステップ＆リピート ○XYステージ：手動スライド式 ○アライメント顕微鏡：オプション ○UV硬化樹脂：大気中スピンコータにて塗布 ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
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