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最終更新日:2012年09月25日

株式会社ナノテック
株式会社ナノテック
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高精度コンタクト圧制御。簡易的な光ナノインプリント実験も可能!

マイクロコンタクトプリンター PA400Sは、次世代のデバイス製作手法として注目を集めるmCP(micro contact printing)法や簡易的な光ナノインプリント(UV-NIL)法に対応するマイクロコンタクトプリント装置です。mCP法は急速に展開してきた有機エレクトロニクス分野やバイオ用マイクロ構造体などを、PDMSス タンプによるチオールインク転写によって製作します。UV-NIL法では超微細マイクロデバイスを石英モールドおよび光硬化樹脂によって製作します。インク補充およびプリントプロセスで独立した2基のステーションは高精度圧力センサおよびZ軸サーボコントロールでコンタクトスピード、コンタクト圧力、距離、時間を プログラム制御可能です。またマスクアライナーとしてもご使用頂けますので各種実験・生産に柔軟に対応します。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

    その他加工機械業務用プリンタ
13.PA400s.JPG

マイクロコンタクトプリンター PA400S

13.PA400s.JPG
13.PA400s.JPG
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基本情報

【主な仕様】 ○プリント形式:Wステーション方式  (プリント/露光ステーションおよびインク補充ステーション) ○アライメント機構:XYZO¢(平行)軸、Z軸モータードライブ分解能0.1pm →ステーション2基は同一仕様 ○Z軸モーション制御:《スピード・加速・コンタクト圧力・高さ・時間》 →プログラム制御(オートブロック)およびジョグ運転 ○コンタクト圧力範囲:1~100N(理論分解能1N) ○適応試料:対応サイズ最大□4インチ ○適応スタンプ:(マスクアライナー時は適応マスク) →サイズ最大□5インチ 厚さ0.06または0.09インチ ○適応スタンプ台:サイズ最大□4インチ ○露光方式 →1:1等倍露光 コンタクト(コンタクト圧調整可)およびプロキシミティ ○露光性能(標準):コリメータレンズ方式250Wφ80mm 均一度±15%  6mW/cm2 at365nm(アップグレード可能) ○アライメント方式:双対物CCD&モニタ観察顕微鏡による目視アライメント ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

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