新素材開発、研究、半導体プロセス医療関連、医薬品、バイオ、食品研究など様々なアプリケーションに対応可能
MSAの「真空用ホットプレート」は、最高温度は室温～600℃で対応で、真空環境に対応したホットプレートの設置により短期間、低予算にて、真空加熱プロセスの追加が可能です。サイズ、温度範囲、プレート材質など、カスタマイズも承ります。 導通端子により、チャンバー外部からの温度コントロールの操作性よく行えます。 導通端子フランジは、NW、VF、その他タイプを取り揃えていますので、新規へのチャンバーは、もとより、既設設備への増設も可能です。 ●クリーンベンチでの使用例をご紹介しております。 詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。
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基本情報
【特長】 ・最高温度：室温～600℃ ・短期間、低予算にて、真空加熱プロセスの追加が可能 ・サイズ、温度範囲、プレート材質など、カスタマイズが可能 ・チャンバー外部からの温度コントロールの操作性良好 ・ 導通端子フランジは、NW、VF、その他タイプをラインアップ ・新規へのチャンバーは、もとより、既設設備への増設も可能 ●クリーンベンチでの使用例をご紹介しております。 詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。
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