お使いのSEMの機能を損なうことなく電子線描画が可能です。
電子線描画装置用パターン発生装置 SPG‐724は、半導体を製造するためのものではなく微細回路・微小光学部品・ナノマシンの研究開発を行うためのものです。 電子線発生と偏向は、SEMそのもので行っています。SPC‐724をSEMに取付けることで、観察用のSEMが描画装置になるわけです。 SEM本体の他に必要なものは、ビームのオンオフを行うブランキング装置、露光量を測定するための電流計、描画パターンをブランキング装置や偏向器におくるパターン発生器とそれらを制御するコンピュータとなります。 【特徴】 ○アドオンスタイルのEBリソグラフィ用パターン発生装置 →様々なタイプのSEMに取付けることが可能 ○市販CADの採用により浮かんだアイデアをすぐ形にできる使いやすさ ○電子線描画専用機を扱うときのような専門知識/熟練技術が不要 →どなたでも気軽にパターンをつくることができる ○広域エリア(最大5mm)の一括露光を実現 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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基本情報
【仕様】 [描画基本機能] ○描画方式：ラスタースキャン/ブロックスキャン ○フィールドサイズ →ラスタースキャン：50/100/200/500μm□ →ブロックスキャン：1mm～5mm□ ○描画画素数 →ラスタースキャン：1000²/2000²/4000²/5000²/10000²dot →ブロックスキャン：1000²dot ○最小アドレスサイズ：5nm/dat ○ドーズタイム：0.5μsec/dot～10msec/dot [制御系] ○PC(OS)：Microsoft・Windows ○CAD：CANVAS [設置条件/寸法] ○電源容量：単相100V 50/60Hz 10A ○寸法：約450W×600D×600Hmm ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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企業情報
経営理念は、「コア技術で研究開発の未来を切り拓く」こと。 研究／開発に携わる方々が、実験において必要とするものを必要なときに提供させていただくことをモットーとし、“装置の機能拡張性を高める”とともに、“多彩なオプション”をご用意しております。 また、“フットワークの軽さ”を武器に、お客様の様々なニーズにお応えできるよう、日々努めております。
