コンパクト構造で、シンプルで低価格な設計になっています。超平坦化加工と無損傷加工を実現！表面改質、高品位薄膜形成などに最適です。
本装置は、数十～数万個の気体原子や分子の集団をイオン化して適度なエネルギーに加速したビーム（GCIB）を非加工物に照射する事で表面の超平滑化や改質を低ダメージで行う事が出来ます。原子分子レベルの加工のため、すでに形状加工された微細構造物の平滑化やエッチング加工、表面加工が可能です。 【特長】 ■ナノオーダーの微細加工に適しています ■Ra 数ナノメートルの平坦化加工 ■反応性ガス処理対応 ■基板表面温度１００℃以下での加工可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
この製品へのお問い合わせ
基本情報
【GCIB（ガスクラスターイオンビーム）装置の特色】 ○試料保持ステージ ・被対象物にあわせてステージ作製し、X-Y-Z、自転、入射角を変更できる ・X-Y スキャンを行うことで、ビーム照射高均一性が得られる ○高真空動作圧 ・アガスクラスターイオン生成室とビーム照射室が分かれているため、照射雰囲気は10－3Pa台の高真空に保たれ、コンタミ発生やプラズマダメージを対象物表面に与えない ○反応性ガス ・対象物加工条件によって反応性ガスでのクラスタービーム照射可能 ・N2, O2, CO2, SF6, CF4, CHF3, B2H6 ○自由度 ・ガスクラスターイオンビーム装置設計時からお客様のご要望を可能な限り反映させ、お客様だけの特注の研究・量産設備に仕上げる ・GCIBアシスト蒸着装置製作も対応可能 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
価格帯
納期
用途／実績例
【用途】 ○ GCIB（ガスクラスターイオンビーム）装置として →表面改質・高品位薄膜形成に →超平坦化加工・無損傷加工・高速加工に ●詳しくはお問い合わせください。
カタログ（1）
カタログをまとめてダウンロード
企業情報
当社は1988年に真空薄膜製造装置の海外輸出商社としてスタートし、今日まで「真空技術のトータルプランナー」として、業容を拡大してまいりました。 この間、光学薄膜材料への展開、さらにはイオンビームプロセスや冷凍機(サップコールド)の販売に力点を置き活動をしてまいりました。 また、新たに次世代のナノ加工分野の重要な技術として期待されている、GCIB（ガスクラスターイオンビーム）プロセス装置を開発し、市場に投入する事になりました。 眼鏡やカメラレンズからスタートして、いまではデジタルカメラや携帯電話、医療用レンズを始め、光関連産業では新しい媒体が続々と生まれています。
