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SE-2000

最終更新日:2021年03月19日

日本セミラボ株式会社 新横浜本社
日本セミラボ株式会社 新横浜本社
  • 公式サイト

多層膜の膜厚・屈折率を非接触で高精度測定。本体の操作や解析作業が容易 ※デモ可能&技術資料進呈

『SE-2000』は、薄膜の膜厚・屈折率を“非接触”で高精度に測定できる回転補償子型の分光エリプソメータです。 ユーザーフレンドリーな解析ソフトを備えており、解析作業が容易。 深紫外から近赤外領域まで幅色い波長領域の測定に対応しています。 材料の組成比、異方性、Mueller Matrix、偏光解消度、反射率・透過率、ドーパント濃度、 リタデーション(R0、Rth)などに関する検査にも対応しており、幅色い用途で活用可能です。 【特長】 ■高精度CCD、高分解能PMT搭載   ■光学モデルのデータベースが豊富 ■多彩な拡張オプション       ■販売実績が多数 〈 セミナー詳細 〉 ■テーマ:分光エリプソメータ 解析モデル作成手順の説明~初級編~ ■開催日時 ・4/22(木) 10:00~ ・5/13(木) 16:00~ ■内容 一般的な構造のサンプルを例にして、解析モデルの作成手順をご説明します。 有効媒質近似モデル、Cauchyモデル、Tauc-Lorentzモデルを使用した解析の説明。 ※参加方法は、当社ホームページ(下記リンク)でご確認ください。

    プローブ分光分析装置光学測定器
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回転補償子型 分光エリプソメータ『SE-2000』※セミナー開催

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  • 関連リンク - https://www.semilab-j.jp/seminar/

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基本情報

※測定原理や測定例、解析プロセスを紹介した技術資料を進呈中。 「PDFダウンロード」よりご覧いただけます。 ※デモの実施も可能です。 【分光エリプソメトリーについて】 分光エリプソメトリーでは、全波長領域における測定データ(Δ,ψ)に対して 適当な光学モデルを適用し解析を行います。 解析の結果として、各層の膜厚、屈折率、消衰係数が得られます。 膜厚はサブ・ナノメートルから測定が可能で、再現性にも優れています。 多層薄膜や材料の光学特性の検査に幅広く使用されています。 ※詳しくはお気軽にお問い合わせください。

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波長範囲などの仕様によって価格が変動しますので、お気軽にお問い合わせ下さい。

納期

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※お気軽にお問い合わせください。

用途/実績例

【アプリケーション例】 半導体、ディスプレイ、太陽電池、バイオ関連、ナノテクノロジー関連など 非常に多くの実績があります。 ※無料カタログをご用意しております。  ダウンロード頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

詳細情報

  • Ellipso_abra_300.png

    分光エリプソメーター 測定原理イメージ エリプソメトリ測定原理イメージ

  • ellipkep_0.png

    マッピング 測定結果イメージ マッピング結果イメージ

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薄膜評価装置『分光エリプソメーター』

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【技術資料】分光エリプソメーター測定原理~偏光とは? ※資料進呈

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この製品に関するニュース(3)

【WEBセミナー開催!】分光エリプソメータ 解析モデル作成手順の説明[日本セミラボ]

  • セミナー・イベント

ウェビナーを開催いたします。 詳細は下記の通りです。ご興味のある方は、是非ご参加ください! ―‐‐ 『テーマ:分光エリプソメータ 解析モデル作成手順の説明 初級編』 ■開催日時 5/13(木) 16:00~ ■内容 一般的な構造のサンプルを例にして、解析モデルの作成手順をご説明します。 初級編としまして、有効媒質近似モデル、Cauchyモデル、Tauc-Lorentzモデルを使用した解析の説明を予定。 ※参加ご希望の方は、日本セミラボ(株)ホームページ(https://www.semilab-j.jp/seminar/)よりお問い合わせください。

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【WEBセミナー開催!】分光エリプソメータ 解析モデル作成手順の説明[日本セミラボ]

  • セミナー・イベント

ウェビナーを開催いたします。 詳細は下記の通りです。ご興味のある方は、是非ご参加ください! ―‐‐ 『テーマ:分光エリプソメータ 解析モデル作成手順の説明 初級編』 ■開催日時 1回目:4/22(木) 10:00~ 2回目:5/13(木) 16:00~ ■内容 一般的な構造のサンプルを例にして、解析モデルの作成手順をご説明します。 初級編としまして、有効媒質近似モデル、Cauchyモデル、Tauc-Lorentzモデルを使用した解析の説明を予定。 ※参加ご希望の方は、日本セミラボ(株)ホームページ(https://www.semilab-j.jp/seminar/)よりお問い合わせください。

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『テーマ:分光エリプソメータ 解析モデル作成手順の説明 初級編』 ■開催日時 1回目:4/22(木) 10:00~ 2回目:5/13(木) 16:00~ ■内容 一般的な構造のサンプルを例にして、解析モデルの作成手順をご説明します。 初級編としまして、有効媒質近似モデル、Cauchyモデル、Tauc-Lorentzモデルを使用した解析の説明を予定。 ※参加ご希望の方は、日本セミラボ(株)ホームページ(https://www.semilab-j.jp/seminar/)よりお問い合わせください。

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