半導体製造等の露光工程における、開発/納期の短縮とコスト削減に貢献します。
半導体製造工程・マイクロセンサー（加速度センサー、圧力センサー、温度センサー、ガスセンサー）製造工程・プリント基板製造工程における露光技術では、フォトマスクを使用し、それを基盤に転写する方式が主流です。 一方、マスクレス露光装置「MXシリーズ」は、DMD（デジタル・マイクロミラー・デバイス）を用いた独自のポイントアレイ方式で、CADデータから直接露光することができます。 フォトマスクを使用しない露光方式では、世界最高レベル（1ミクロン以下）の露光精度を実現。 試作が容易になり、時間・コストの削減に貢献します。 【特徴】 ○高価なマスクが不要となる ○マスクデータの外部流出防止 ○描画パターンの設計から描画までの時間短縮 ○描画パターンの設計変更が容易 ○各基板の歪みに合わせた露光パターンの補正等が可能 ・詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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基本情報
【主な仕様】 ○型式：MX-1201／MX-1201E／MX-1205 ○最小線幅：5μm／3μm／1μm ○データ分解能：0.5μm／0.25μm／0.05μm ○最大基板サイズ（mm）： 200x200／200x200／100x100 ○有効露光エリア（mm）： 200x200／200x200／100x100 ○レーザ主波長（nm）： 405±5／375±5／405+375±5 ○露光スキャン速度（ｍｍ/s）： 43.9／22.5／4.5 ○光学エンジン搭載数(灯) ： 1／1／1 ●サイズはご相談に応じます。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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企業情報
当社は創業以来、匠の技を駆使・伝承し最先端技術を確立してまいりました。「品質第一」「顧客優先」を第一にお客様と共に喜べる製品づくりに努め、数多くの方々から格別なるご指導とご愛顧を賜り、今日まで堅実に成長を遂げております。 独自の光学・精密機構・電子制御・ソフトウェアの技術を持ち、オプトメカトロニクスの複合技術である露光装置を中心に技術力の向上に努めております。また、品質管理と環境管理への取り組みとしてISO9001とKESの認証を取得しております。今後も、お客様のニーズにタイムリーにお応えできる装置づくりを念頭に「高品質」「短納期」「低コスト」に取り組んでまいります。