装置・専門技術者・オペレータ不要！プロセスサービス外注対応
日本機能材料株式会社では、欧米を中心とした、プロセス会社＋基板材料会社の世界的な連合との間の適切な橋渡しをしております。 「エピ成長」「酸化」「装着・スパッター」「ウェーハ研磨」「レーザー加工」「その他プロセス」などのプロセスサービス及び「FZウェーハ」「CZウェーハ」「SOIウェーハ」「SOSウェーハ」「その他ウェーハ」などのウェーハ基板を提供いたします。 【特長】 ○装置不要 ○専門技術者不要 ○オペレータ不要 ⇒プロセスサービス外注 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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基本情報
【エピタキシャル成長サービス紹介】 ○依頼先：LSRL ローレンス半導体研究所 →設立：1992年 →所在地：米国アリゾナ州テンピ市 ○サービス内容：IV族エピタキシャル成長 →Si、SiGe、SiGeC →選択エピ成長（Selective） →埋込エピ成長（Buried） →SOI、SOS ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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企業情報
日本機能材料は高度な「4族」のエピタキシャル成長サービスをその最重点事業といたします。 具体的にはSi、SiGe、SiGeC、Ge、SOI（Silicon on Insulator）、SOS(Silicon on Sapphire)等のエピ成長が対象になります。これに3/5族（ボロンやリンなど）をドープした多層膜を形成します。トレンチへの埋め込みエピ成長も受けております。選択成長も行います。一層の厚さは基本的にはnmオーダーです。製作は米国ローレンス半導体研究所（LSRL）が行います。個別に仕様を受け、それをまとめて製作を行い、日本機能材料はお客様とメーカーの間で適切な橋渡しを行います。 このようなエピ層を受注し、生産できるメーカーは世界的にも希少です。 まずご相談ください。ご要望により、訪問し、ご説明いたします。 他にも種々の業務に携わっておりますので、企業案内をご覧ください。