先端機能材料の発掘とその迅速な普及を通じて、社会の発展と人々の生活スタイルの革新に寄与します。

日本機能材料は高度な「4族」のエピタキシャル成長サービスをその最重点事業といたします。 具体的にはSi、SiGe、SiGeC、Ge、SOI（Silicon on Insulator）、SOS(Silicon on Sapphire)等のエピ成長が対象になります。これに3/5族（ボロンやリンなど）をドープした多層膜を形成します。トレンチへの埋め込みエピ成長も受けております。選択成長も行います。一層の厚さは基本的にはnmオーダーです。製作は米国ローレンス半導体研究所（LSRL）が行います。個別に仕様を受け、それをまとめて製作を行い、日本機能材料はお客様とメーカーの間で適切な橋渡しを行います。 このようなエピ層を受注し、生産できるメーカーは世界的にも希少です。 まずご相談ください。ご要望により、訪問し、ご説明いたします。 他にも種々の業務に携わっておりますので、企業案内をご覧ください。