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CVD-SiC(化学蒸着法)「SiC製品」

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最終更新日:2017年12月26日

株式会社フェローテックホールディングス
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SiC成膜技術で未来をひらく!独自の化学蒸着法で製作されたSiC製品

独自の CVD - SiC( 化学蒸着法)で製作されたアドマップの SiC 製品は、 超高純度・高耐食性・高耐酸化性・高耐熱性・高耐摩耗性の特性を備えています。 半導体をはじめ、産業機械、原子力、航空宇宙分野など、 あらゆるフィールドで高い評価を得ております。 【特長】 ○塩酸・硫酸・硝酸・弗酸・弗硝酸などの酸ではほとんど腐食しない ○表面には二酸化ケイ素(SiO2)被膜が形成されるため高い耐酸化性がある ○融点や軟化点などを持たず、約2000℃を超える温度で昇華するまで安定 ○ダイヤモンドや炭化ホウ素に次いで硬い化合物 ○緻密で高純度 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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CVD-SiC(化学蒸着法)「SiC製品」

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【製品紹介】 ○コーティング技術  →半導体製造装置用チューブ・ボート など ○膜単体製造技術  →膜単体ボートおよびSiCダミーウェハ/SiCダミーウェハ/各種膜単体部品 など ○ソリューション  →超高温アニール装置用部材/中空式および組立式ボート/超高純度SiCパウダー など 【SiC各種物性地】 [(111)配向性材料 / 等方性材料] ○密度 g/cm3:3.21 / 3.21 ○曲げ強度(室温) MPa:382 / 539 ○引張り強度(室温) MPa:294 / - ○ヤング率(室温) GPa:478 / 447 ○硬さ:HK:3500 / - ○熱膨張係数(室温~1000℃) 1/K:4.5×10^-6 / 4.5×10^-6 ○熱伝導率(板厚方向) W/m・K:- / 264 ○熱伝導率(面内方向) W/m・K:280 / 236 ○比熱 J/g・K:0.65 / 0.67 ○比抵抗 Ω・cm:10^4 ≦ / ≦10^2 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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株式会社フェローテックホールディングスは、「装置関連事業」「太陽電池関連事業」「電子デバイス事業」という製品用途と市場分野に応じた3つの事業セグメントで積極的な事業活動を展開しています。新エネルギー産業およびエレクトロニクス産業では、高品質な製品やサービスを提案し、コスト競争力のある製品やサービスを提供しております。また、地球環境に配慮した活動を積極的に推進することを経営上の重要課題の一つとしており、最新の環境規制要求への適応を順次進め、新エネルギー産業で活用できる素材・製品などを開発し、地球環境問題の解決に貢献しています。株式会社フェローテックホールディングスは、コア技術を活用したものづくりを通して社会に貢献し、顧客、株主、社員、取引先、地域社会などステークホールダーの方々が成長する楽しみを持てる企業であり続けます。

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