ハードディスク装置の飛躍的な性能向上を図るための極薄膜化事例の紹介
ハードディスク装置の飛躍的な性能向上を図るためスライダーヘッド保護膜の極薄膜化が検討されて来ました。 ヘッド／ディスクのナノスペーシング化に伴いヘッドのディスク面への接触による摩損を最小化するために、より硬く弾力性に富んだ炭素膜が必要となり、耐食性に優れたピンポールの無い緻密な膜が要求されてきました。 これらの要求性能を満足しパーティクルフリーで生産性の優れた炭素膜として、『FCVAコーティング方式によるta-C膜』が業界標準的に使用されています。 【アプリケーション事例】 ○従来のDLC膜では4nm以下の薄膜領域では実用上問題となった ⇒ta-C膜使用で1.5nmの薄膜が実用化された ○垂直磁気記録方式ではディスク面保護膜としてもta-C膜適用が検討されている ⇒課題：スライダーと比較してより短時間にコーティングする必要性がある 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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基本情報
【ハードディスク スライダー事例】 [FS1 on Shimadzu DLC-MR3CA] ○GMR スライダーヘッドアプリケーション ○交換可能なクラスターツール ○最大でφ8インチの蒸着エリアで±5%よりも良い均一性 [GMRヘッドのオーバーコートのための必要条件] ○合計膜厚 (Si/DLC) : < 3nm ○耐食性 ○緻密さと硬度 ○耐磨耗性 ○生産性 →蒸着エリア: 8インチ →均一性/再現性: < +/-5% ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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企業情報
弊社の開発技術は国際特許を取得し社会的にも大きな役割を担っています。 FCVA方式によるスーパーDLC（水素基フリーのta-C膜）（*2）は、 既存のPVD方式やCVD方式により生成されるDLC膜と比較し全く異なるプロセスで成膜されております。 そのほか金属とプラスチックとの離型性に優れた複合金属膜「Micc膜(*3)」があります。 FCVA方式により生成されるコーティング膜は、現在 ハードディスク産業、 精密機械産業、半導体産業などの分野で急速に採用されており、 今後、自動車産業、ナノインプリト産業や生体材料分野への展開が期待されています。
