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【PyroMini】小型高性能赤外線温度センサー

最終更新日:2026年08月26日

テルモセラ・ジャパン株式会社 本社
テルモセラ・ジャパン株式会社 本社
  • 特設サイト
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高機能タッチパネル変換器で簡単設定・データロギング・microSDカードにデータ保存 PM2.2は光沢金属表面の測定も可能

【概要】 視認性の良い高輝度タッチパネルディスプレーで、温度レンジ・放射率・サンプリングレート等のパラメータを直感的に操作・設定。 microSDカードで長期間のデータ保存・管理が可能です。 (*オプションでディスプレー無しの変換器もあります) φ18mm x 45mmの小型センサヘッドで、狭い場所での温度測定も可能、耐ノイズ性に優れたセンサ・ケーブルを採用しておりますので、ロボットアームなどの動く機器への組込みにも適します。 PM2.2モデルは、短波長2.2um波長を採用、高温(Max2000℃)、光沢性のある金属材料表面の測定などにも対応します。 【特徴】 ◎ ワイドレンジ:-20〜1000℃(PM), 100〜2000℃(PM2.2) ◎ 優れた基本性能:精度±1%, 再現性±0.5%、240msec高速応答 ◎ 測定波長領域:8〜14μm(PM), 2.0〜2.2μm(PM2.2) ◎ 小型Φ18mm x 45mm

    温湿度関連測定器
PM_iPROS_550.jpg

【PyroMini】小型高性能赤外線温度センサー

PM_iPROS_550.jpg
PM_iPROS_550.jpg PM_iPROS_550.jpg FBS_iPROS_550.jpg ABL_iPROS_550px.jpg AP_iPROS_550px.jpg
  • テルモセラ・ジャパン_PyroMini掲載ページ
  • 特設サイト - 製品・サービス詳細 - https://pr.mono.ipros.com/thermocera/product/

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基本情報

【その他仕様】 ◉ PMモデル  視野角: ・PM-21:2:1 ・PM-151:15:1 ・PM-201:20:1 ・PM-301:30:1 ・PM-CF:φ5mm@100mm ・PM2.2-151:15:1 ・PM2.2-251:25:1 ・PM2.2-751:75:1 ・PM2.2-CF:φ7.5mm@500mm ◉ 温度範囲: ・PMモデル:-20℃〜1000℃ ・PM2.2モデル:100〜2000℃ ◉ 測定波長領域: ・PM:8-14um ・PM2.2:2.0〜2.2um ◉ 放射率: ・PM:0.2〜1.0 ・PM2.2:0.1〜1.0 ◉ 電源:24VDC ◉ センサ部寸法:Φ18mm(径) x 45mm(長さ) 【オプション】 ◉ 本体固定金具(固定式、アングル式) ◉ 水冷ジャケット ◉ エアパージジャケット ◉ デュアルレーザー照準器

価格帯

1万円 ~ 10万円

納期

~ 1ヶ月

用途/実績例

各種産業用機械、工場設備機器(食品・建築・製紙・印刷・ゴム・タイヤ・電力機器)

詳細情報

  • PM_iPROS_550.jpg

    PyroMini小型高性能赤外線温度センサー 高機能・高輝度タッチパネルスクリーン付変換器 microSDカードでデータ保存

  • FBS_iPROS_550.jpg

    FBS_固定金具 PyroMini USB用固定金具

  • ABL_iPROS_550px.jpg

    ABS_角度調整固定金具 PyroMini USB本体固定用

  • AP_iPROS_550px.jpg

    APS_エアパージキット PyroMini USB用エアパージジャケット 1/8BSP(P) フィッティング= G1/8 (1/8インチ平行めねじ) 0.5〜1.5L/min

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【PyroMini】小型高性能赤外線温度センサー

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【PyroUSB】USB接続式 高精度赤外線温度センサー

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【PyroMini USB】USB接続式小型赤外線温度センサー

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【ExTemp】本質安全防爆型赤外線放射温度センサー

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【PyroCouple】 (パイロカップル)赤外線温度センサー

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【Mini-BENCH 】超高温卓上型実験炉 Max2000℃

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Mini-BENCH-prism セミオート式 超高温実験炉 Max2000℃

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【MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉】Max2000℃

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BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃

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【SH 高温 基板加熱ヒーター】(Inc/BNプレート Max1100℃)PVD CVD 真空薄膜用 高温 プレートヒーター

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ホットステージ【基板加熱機構】超高温基板加熱ヒーター

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薄膜実験装置_「PRODUCTS GUIDE 2025」

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【nanoPVD-S10A】RF/DCマグネトロンスパッタリング装置

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スパッタ・蒸着ソース混在 複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

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ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】

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グローブボックス薄膜実験装置【MiniLab-026/090-GB】

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CADデータ(4)

型番 概要 ファイル
PyroMini CADファイル PyroMiniセンサーヘッド部
  • 2D pdf ( 287KB)
PyroMini CADファイル PyroMiniセンサーヘッド部
  • 3D step ( 556KB)
PyroMiniタッチパネル設定表示器 PyroMiniタッチパネル設定表示器
  • 2D pdf ( 0B)
PyroMiniタッチパネル設定表示器 PyroMiniタッチパネル設定表示器
  • 3D step ( 0B)

この製品に関するニュース(56)

円筒状ヒーターユニット製作事例1

◾️◾️真空用【CH 超高温円筒状ヒーター】Max1800℃ ◾️◾️

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真空用 超高温円筒状ヒーターユニット 最高温度1800℃(グラファイト、C/Cコンポジット) ご要望の仕様にて都度製作致します。 さまざまな用途に応用できる高真空中での円筒状加熱ユニットです。 円筒状加熱範囲内に、試料を入れた坩堝の加熱、金属・セラミック・ワイヤー状サンプルの加熱、など目的に応じてカスタムメイド致します。 ◎ 使用可能環境:真空中, 不活性ガス中 etc.. ◎ 発熱体:Graphite, C/Cコンポジットヒーター、SiCコーティング、PGコーティング、タングステン、タンタル、など。 ◎ 製作範囲:ヒーター部(Φ150 x 100mm程度まで)導入フランジ、温度制御ユニット ◎ 用途:各種真空装置プロセスチャンバー内での試料加熱、放電プラズマ生成ユニット熱電子銃(Lab6)用、ガス供給系統配管急速加熱(液体急速気化) その他ご要望に応じ、特注仕様製作致します。詳細は当社までお問い合わせ下さい。

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【MiniLab-WCF超高温ウエハーアニール炉】画像

【MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉】Max 2000℃_ウエハー高温焼成専用(6inch〜8inch)

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Max2000℃ Φ6〜8inchウエハー専用高温アニール装置 小規模生産も可能なマルチ雰囲気ウエハーアニール装置 ◾️ Max2000℃ ◾️ 有効加熱範囲:Φ6〜Φ8inch 枚葉式 ◾️ ヒーター制御:1ゾーン、又は2ゾーン(カスケード制御) ◾️ ヒーター材質: ・C/Cコンポジット ・SiCコーティング グラファイト ・TaCコーティング グラファイト ・タングステン ◾️ 使用雰囲気: ・真空中、又は不活性ガス(Ar, N2) ◾️ 到達真空度:10-3 Pa台(@1800℃ *但し空炉、高真空ポンプ仕様の場合) ◾️ PLCセミオート運転 ・真空/パージサイクル、自動ベントシーケンス制御 ・タッチパネル操作、操作が分散せず一元管理が可能です。 ◾️ プロセス圧力制御 ・APCコントロール(MFC流量、又は自動開度調整バルブ PIDループ制御) ・MFC最大3系統流量自動制御、又はフロートメーター/ニードルバルブの手動調整 ◾️ PLOT画面グラフ表示、CSVデータ出力(オプション)

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高温アニール炉 ◉Mini-BENCH-prism セミオート式 超高温実験炉 Max2000℃

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◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空/パージサイクル」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御 最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、タングステンメタル炉) 小型・省スペース実験炉 ◉有効加熱範囲 ・面状ヒーター加熱範囲:Φ2inch〜Φ6inch ・円筒状ヒーター加熱範囲:Φ30〜Φ80 x 深さMax100(H)mm ◉到達真空度:10-3 Pa台(@1800℃ *但し空炉、高真空ポンプ仕様の場合) ◉MFC最大3系統 自動流量制御(又は手動調整) ◉APC圧力制御(オプション) ◉インターロック: 冷却水異常・チャンバー温度異常・過昇温異常 ◉小型・省スペース 幅603 x 奥行603 x 高さ1,160mm(*ロータリーポンプ筐体内設置) 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。

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Mini-BENCH小型実験炉(Φ2inch仕様)の製品画像

□■【Mini-BENCH furnace】超高温卓上型実験炉 Max2000℃ □■

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卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃ ◆装置構成◆ 予算・目的に応じてご要望の構成をご提案致します。 (A)最小構成:チャンバー + 温度制御ユニット (B)上記最小構成(A) + 真空排気系(ポンプ、ゲージ、バルブ・真空配管類) ◉ 円筒状ヒーター:るつぼ内サンプル焼成(固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用) ◉ 面状ヒーター:Φ2"〜Φ4"ウエハー、小片チップ焼成用 ◆基本仕様◆ ・ヒーター:C/Cコンポジット(カーボン炉), タングステン(メタル炉) ・断熱材:グラファイトフェルト材, タングステン/モリブデン ・温度制御:プログラム温度調節計、C熱電対 ・到達真空度:10-3 Pa台(@1800℃ *但し空炉、高真空ポンプ仕様の場合) ・電源仕様:AC200V 50/60HZ 三相 6〜10KVA ・冷却水:3L/min, 0.2Mpa 18〜20℃ ◆コントロールボックス仕様◆ ・プログラム温度調節計 ・DC電源装置 ・電流、電圧計 ◆オプション◆ ・真空排気系(真空ポンプ、真空計、バルブ類) ・特注るつぼ ・架台 他

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テルモセラ・ジャパン株式会社

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産業用電気機器

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【Endless possibility_thermal engineering...】 当社は半導体・電子機器基礎研究用真空薄膜装置、CVD基板加熱用超高温ヒーター、実験炉、温度計測機器などを販売しております。 いつの時代でも欠かす事のできない「熱」に対する尽きぬ需要、基礎技術開発分野での様々なご要求にお応えすべく、最新の機器を紹介し、日本の研究開発に貢献してまいりたいと考えます。

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