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最終更新日:2016年08月05日

株式会社インターフェイス
株式会社インターフェイス
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金属や部品の量産から全長500mm迄の大型品の処理に適した装置!

『IK-1000』は、金属や部品の量産から全長500mm迄の大型品の処理に 適した装置です。 高真空雰囲気中において、ターゲット(成膜材料)を陰極、アノード(陽極) との間で真空アーク放電を発生させ、成膜材料を蒸発、イオン化し、 基材に負バイアス電圧を印加することで、プラズマ中にイオンを引き付けて 成膜を行います。 また、テストピースの試作など、研究開発用途に適した「IK-500」 もございます。 【特長】 ■金属や部品の量産に適する ■全長500mm迄の大型品の処理に適する ■プラズマ中にイオンを引き付けて成膜を実施 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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IK--1000.JPG

コーティング装置『IK-1000』

IK--1000.JPG
IK--1000.JPG
  • 関連リンク - http://www.itfc-cot.jp/%E3%82%B3%E3%83%BC%E3%83%86…

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基本情報

【仕様】 ■方式:真空アーク放電型 ■形式:1室型バッチ式 ■電源:4相 380V 50Hz 90kVA ■処理温度:最大500℃ ■真空槽:φ1,000mm×高さ1,000mm ■有効エリア:φ650mm×高さ500mm ■自公転テーブル:φ150×600H×8式 ■アークカソード:φ80×10式 ■膜種:ta-CX、TiN、TiCN、TiAlN、CrN、多層膜、複合膜 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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用途/実績例

【用途】 ■金属 ■部品の量産 ■全長500mm迄の大型品の処理 など ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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株式会社インターフェイスは、PVD、CVDコーティングのエキスパート集団です。最新表面処理技術やその応用を国内外に提供しております。金属・セラミックス等への表面処理受託加工やCVD、PVD装置設計、製造、開発、真空装置の設計、ガス供給装置の設計などを行っております。

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