アスペクト比1：5の加工実績！幅広い分野で使用できます！
当社では、パターン線幅と膜の厚さ（＝高さ）の縦横比が高い 『高アスペクト比レジスト』による加工が可能です。 アスペクト比1：5の加工実績がございます。 当技術により、レジストパターンは単なる防御膜としてだけではなく、 微細な立体構造そのものとなり、使用用途も広がりました。 【特長】 ■アスペクト比1：5の加工実績 ■幅広い使用用途 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【用途】 ■流路 ■スタンパー ■セル隔壁 など ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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用途／実績例
【用途】 ■流路 ■スタンパー ■セル隔壁 など ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
フォトプレシジョン株式会社は、フォトファブリケーションを中心的技術として、マイクロエレクトロニクス製品や光学製品をはじめとする様々な分野での試作・開発に貢献する会社です。 次世代産業の基幹製品と期待されているMEMS(Micro Electro Mechanical System)・バイオチップ・マイクロ化学チップ等は、ナノテクノロジー・三次元マイクロマシーニング・高密度三次元実装・三次元フォトリソグラフィー等の技術を複合的に応用して形作られます。フォトファブリケーションは、これらの技術すべてに深くかかわっており、MEMS開発の基礎技術となっています。 私たちは、お客様からのご助力を賜りながら、常に技術的な研鑽に努めると共に、可能な限り高度な設備を導入し、お客様の多岐にわたるご要望にお応えしたいと考えています。
