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最終更新日:2024年10月12日

テルモセラ・ジャパン株式会社 本社
テルモセラ・ジャパン株式会社 本社
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テルモセラ・ジャパン研究開発用実験炉を紹介。燃料電池・セラミックス等の材料開発・黒鉛・等の超高温実験に活用頂けます。

研究開発分野向け、各種実験装置を紹介します。 ◉ Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉 Max2000℃ ◉ Mini-BENCH-prism セミオート式 超高温実験炉 Max2000℃ ◉ MiniLab-WCF 超高温ウエハー焼成炉 Max2000℃ その他、特注で研究開発用高温炉を設計製作致します。 他

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□■掲載ラインナップ■□ ◉ Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉 Max2000℃ ◉ Mini-BENCH-prism セミオート式 超高温実験炉 Max2000℃ ◉ MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉 Max2000℃ ◉ TVF-110 石英反応管縦型炉 Max1200℃ ◉ Nanofurnace 石英反応管 ホットウオール熱CVD装置 ◉ ANNEAL ウエハーアニール装置 Max1000℃ ※詳細は資料請求またはダウンロードからお問い合わせください。

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電子デバイス・燃料電池・ディスプレイ等の基礎研究開発

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実験炉・ヒーター_「PRODUCTS GUIDE_2025」

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【Mini-BENCH 】超高温卓上型実験炉 Max2000℃

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Mini-BENCH-prism セミオート式 超高温実験炉 Max2000℃

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【TCF-C500】超高温小型実験炉 Max2900℃

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【MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉】Max2000℃

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【Nanofurnace】Model. BWS-NANO 熱CVD装置

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BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃

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【SH 高温 基板加熱ヒーター】(Inc/BNプレート Max1100℃)PVD CVD 真空薄膜用 高温 プレートヒーター

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ホットステージ【基板加熱機構】超高温基板加熱ヒーター

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◆HTEヒーター/OLED有機蒸着・高温金属蒸着セル◆ Max1500℃

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薄膜実験装置_「PRODUCTS GUIDE 2025」

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【nanoCVD-8G】グラフェン合成装置

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◆nanoANNEAL◆ ウエハーアニール装置

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【nanoPVD-S10A】RF/DCマグネトロンスパッタリング装置

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◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置

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【マグネトロンスパッタリングカソード】

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【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置

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★【MiniLab-070】フレキシブル薄膜実験装置★

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【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置

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【PyroUSB】USB接続式 高精度赤外線温度センサー

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【PyroMini USB】USB接続式小型赤外線温度センサー

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【PyroMini】小型高性能赤外線温度センサー

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【ExTemp】本質安全防爆型赤外線放射温度センサー

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【PyroNFC】スマートホン設定式赤外線放射温度センサー

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【PyroCouple】 (パイロカップル)赤外線温度センサー

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★nano BenchTopシリーズ 薄膜実験装置★

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多元マルチスパッタリング装置【MiniLab-S125A】Φ4〜12"対応

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多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S070】

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【MiniLab】 蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム

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グローブボックス薄膜実験装置【MiniLab-026/090-GB】

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ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】

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ソフトエッチング装置【nanoETCH】グラフェン・レジスト・SiO2・h-BNエッチング

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スパッタ・蒸着ソース混在 複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

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【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

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この製品に関するニュース(40)

MiniLab series

【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置】総合カタログ

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この度、MiniLabシリーズ薄膜実験装置のカタログを一新しました。 【MiniLabシリーズの特徴】 ◉スパッタ、蒸着(抵抗加熱・有機・EB)、アニール、プラズマエッチング等に対応 ◉モジュラー式 フレキシブルにコンポーネントの組合せを構成(ソース複合型、マルチチャンバーも可能) ◉コンパクト、省スペース設計(幅1,200 x 奥行560mm) ◉優れた操作性:直感的インターフェイス、操作が分散せず全てをタッチパネルで一元管理できます。 研究開発の現場で、必ずやお役に立てるものと確信しております。 ぜひご検討ください。

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Mini-BENCH 超高温小型実験炉 製品画像

□■【Mini-BENCH furnace 】超高温卓上型実験炉 Max2000℃ □■

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卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃ ◆装置構成◆ 予算・目的に応じてご要望の構成をご提案致します。 (A)最小構成:チャンバー + 温度制御ユニット (B)上記最小構成(A) + 真空排気系(ポンプ、ゲージ、バルブ・真空配管類) ◉ 円筒状ヒーター:るつぼ内サンプル焼成(固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用) ◉ 面状ヒーター:Φ2"〜Φ4"ウエハー、小片チップ焼成用 ◆基本仕様◆ ・ヒーター:C/Cコンポジット(カーボン炉), タングステン(メタル炉) ・断熱材:グラファイトフェルト材, タングステン/モリブデン ・温度制御:プログラム温度調節計、C熱電対 ・到達真空度:10-3 Pa台(@1800℃ *但し空炉、高真空ポンプ仕様の場合) ・電源仕様:AC200V 50/60HZ 三相 6〜10KVA ・冷却水:3L/min, 0.4Mpa 25〜30℃ ◆温度制御ユニット◆ ・プログラム温度調節計 ・DC電源装置 ・電流、電圧計 ◆オプション◆ ・真空排気系(真空ポンプ、真空計、バルブ類) ・特注るつぼ ・架台 他

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 【MiniLab-026/090-GB】グローブボックス薄膜実験装置

★☆★☆【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置★☆★☆

  • UPDATE
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小型・省スペース! 有機薄膜開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等全ての作業をグローブボックス内でシームレスに行う事ができます。 有機EL, 有機薄膜太陽電池, 有機薄膜太陽電池, 又, グラフェン・2D材料(遷移金属ダイカルコゲナイドなどの二次元層状無機ナノ材料)などの開発プロセスでは、酸素・水分から隔離された不活性ガス雰囲気で試料を取扱う必要があります。PVDチャンバーをGB内に収納することにより有機膜用途の「酸素・水分フリー」実験環境をコンパクトな省スペース環境で実現。 【特徴】 ◉ PVD成膜、スピンコート塗布・ホットプレートベーキングなど一連の作業を外気に晒すことなく、GB内でシームレスに行うことができます。 ◉ 省スペース:背面にチャンバーがせり出しませんので、スペースを取りません。 【MiniLab対象】 ◉ MiniLab-026(26ℓ容積):金属/絶縁物/有機材料蒸着、スパッタリグ、RF/DCエッチング、アニール ◉ MiniLab-090(90ℓ容積):金属/絶縁物/有機材料蒸着、スパッタリグ、RF/DCエッチング、アニール

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MiniLab-S070A薄膜実験装置

4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】自動連続多層膜・同時成膜 RF/DC/PulseDC

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Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF150W or DC780W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチャンバー) 基板加熱:Max500℃, 800℃, 又は1000℃(C/C、又はSiCコート) 基板回転・上下昇降(ステッピングモーター自動制御) APC自動制御:アップストリーム(MFC流量調整)又はダウンストリーム(排気側バルブ自動開度調整) デポレート・膜厚レート制御 寸法:1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。

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【Endless possibility_thermal engineering...】 当社は半導体・電子機器基礎研究用真空薄膜装置、CVD基板加熱用超高温ヒーター、実験炉、温度計測機器などを販売しております。 いつの時代でも欠かす事のできない「熱」に対する尽きぬ需要、基礎技術開発分野での様々なご要求にお応えすべく、最新の機器を紹介し、日本の研究開発に貢献してまいりたいと考えます。

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