お手持ちの基板の表面凹凸をナノレベルで平坦化させます！
東邦化研株式会社では、これまで成膜技術で培った真空のノウハウや、薄膜で得た経験を活かし、薄膜の受託加工サービスに加えて、ＧＣＩＢ(ガスクラスターイオンビーム)による『表面改質』の受託加工サービスを始めました。
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基本情報
ＧＣＩＢ(ガスクラスターイオンビーム)とは、対象物の表面状態を、ナノレベルで平坦化させる技術です。 真空中で1,000個単位のAr原子が集まったクラスター(塊)をイオン化・加速させ、対象物に衝突させます。 高エネルギーで衝突させたArクラスターは、対象物の表面でクレーターの様に衝突痕が発生します。 この衝突を対象物の表面で繰り返すことで「表面改質」が可能となります。 それにより、3～10nmの面粗度を1nm程度まで平坦化する事が可能となります。 ・対応基板 金属材の他、ＳＵＳ材やガラス基板等、材質に制約はございませんが、樹脂フィルム等は照射による熱が若干高くなる為、別途ご相談ください。 ・対応サイズ 標準的な対応サイズは200×200×t20(mm)となります。それ以上大きいものは別途ご相談下さい。
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納期
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企業情報
弊社ではイオンプレーティング、真空蒸着、スパッタリング、プラズマCVDによる 機能性薄膜の受託加工（コーティングサービス）を行っております。 発足当初より導電性や絶縁性、耐食性など『機能性薄膜』に重点を置き、 金属膜や、酸化膜・炭化膜・窒化膜等の反応膜、また、それらの積層膜等、様々な膜種に対応し、 試作・開発・研究などの少量から、中小ロットの生産まで、 幅広いご要望にお応えするべく体制を整えて参りました。 現在、Φ３００mmサイズの小型機から １０００mm×９００mmの成膜エリアを持つインライン方式の量産機まで 計11台の成膜装置が稼動しております。 なお、お客様からお預かりした基板の開封から成膜品の梱包までの 全工程をクリーンル―ム内で行っております。 機能性薄膜をご検討の際は、お気軽にお声掛けください！ 柔軟な対応と35年以上の実績をもとに、お客様のご要望にお応えします！ ※HPに展示会出展情報も記載しております。 ぜひご覧ください。