円筒ITOターゲットのパイオニア、ユミコア社製円筒形ITOスパッタリングターゲットです。
特徴： -. 組成：90wt% In2O3 ー10wt% SnO2はもちろん、SnO2の組成比を1wt%から20wt%まで柔軟に対応致します。 -. 最長670ｍｍまで分割無しで製作可能です。 -. 平面形状、ディスク形状でのご提供も可能です。
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基本情報
組成： Ｉｎ２Ｏ３―ＳｎＯ２（１－２０ｗｔ％） 密度： ７．１０ｇ／ｃｃ以上 純度： ９９．９９％以上 製法： Ｔｉ製バッキングチューブへのインジウムボンディング バッキングチューブサイズ（ｍｍ）： 内径１２５ x 外径１３３ x 長さ２００－４０００ ターゲットサイズ： 内径１３５ｍｍ ターゲット厚み： ６－１０ｍｍ 標準分割長： ２００ｍｍ （最長分割：６７０ｍｍ）
価格情報
数量によって価格が変動しますので、お気軽にお問い合わせください。
納期
※数量によって価格が変動しますので、お気軽にお問い合わせください。
用途／実績例
－．タッチパネル向けスパッタ成膜 －．ディスプレイ向けスパッタ成膜 －．その他光学用途向けスパッタ成膜
企業情報
スパッタリング装置に頻繁に用いられる、ロータリーカソードのリーディングカンパニー、米国・Sputtering Components Inc、通称SCI社の、日本販売拠点です。 SCI社の兄弟会社、米国・Process Materials Inc、通称PMI社の円筒型スパッタリングターゲットや平面ターゲットも取り扱っております。 お気軽にお問合せ頂けましたら幸いです。