非分散型赤外線検出法を採用！高精度の酸素分析装置をご紹介
『O836Si』は、シリコン業界における低濃度・高精度酸素分析の需要に 応えるために開発された、シリコンウエハー専用酸素分析装置です。 高い精度を誇る非分散型赤外線検出器、最新のサンプルローディングシステムとプログラム可能なインパルス炉の組み合わせで正確・高精度な酸素分析を可能にします。 また、Windowsベースのシステムを採用し、高い操作性を実現しています。 【特長】 ■低濃度用の高精度なソリッドステート赤外線検出器 ■低いシステムブランクとウエハ測定用のローディングヘッドデザイン ■測定結果はppmaでの表示も可能 ■Windowsベースのオペレーティングシステム ■シリコンウエハー、鉄鋼などの金属の分析が可能 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【仕様】 ■分析範囲（試料0.3g）：0.1ppm – 500ppm ■分析精度（試料0.3g）：標準偏差（s） 0.05ppmまたはRSD 0.3% ■キャリブレーション：標準試料 / 1点または多点 / 手動/ガスドーズ ■試料重量・寸法：通常 1.0g、0.25g – 0.70g（シリコン分析） ■検出方法：非分散型赤外線検出法 ■試薬 ・過塩素酸マグネシウム ・レアアースベース酸化銅、還元銅 ・水酸化ナトリウム（不活性基質にコーティング） ・酸素水分除去試薬（OMIチューブ） ■使用ガス ・キャリアガス：ヘリウム 99.99%、0.15MPa±5% アルゴン 99.999%、0.15MPa±5% ・駆動ガス：圧縮空気または窒素（水分・油分が含まれないこと）、0.28MPa±10% ・ガスドーズ：二酸化炭素 99.99%、0.14MPa±10% ■寸法/重量：91.5(H)cm × 71(W)cm × 76(D)cm / 186kg ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
企業情報
米国LECO社は、1936年から、あらゆる工業製品の材料の開発や品質管理の分析現場の期待に応えてきました。 特に、金属材料中の炭素・硫黄・酸素・窒素･水素分析の分野では、圧倒的なシェアを持っており、グローバルなお取引に十分な信頼性を確保できる分析値を提供できます。また、これらの分析技術の応用から有機物の元素分析や食品中の栄養成分分析の分野でも簡便で安全でより正確な方法として各方面で評価されてきています。更に、質量分析の分野では、飛行時間型（TOF-MS）の先駆者として、欧米をはじめとする最先端の研究現場の足がかりとなるデータの蓄積に貢献しています。 今後とも、正確な分析結果を基にあらゆる方面で皆様の新技術の開発、生産性と品質の向上に寄与できますよう努力して参ります。