ユーザーのニーズに合う多種多様な真空装置のカスタマイズ製作を行います
創意工夫を大切にし、時流に流されない研究開発を続けるナノテックが 取り扱う『各種真空成膜装置』をご紹介します。 当社では、ユーザーのニーズに合う多種多様な真空装置の カスタマイズ製作を行います。 HIPIMS法による成膜を行う「ICF成膜装置」をはじめ、半導体プラズマ洗浄用 プラズマエッチング装置「NAPE500」などをご用意しております。 【ラインアップ】 ■ICF成膜装置 ■プラズマエッチング装置「NAPE500」 ■パルスバイアス実験装置「ICF330」 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【特長】 ＜ICF成膜装置＞ ■HIPIMS（High Power Impulse Magnetron Sputtering）法による成膜 ■高出力でスパッタされた粒子が基材に衝突することにより、 高い密着と硬度を特長とする緻密な膜成形を実現 ■高速成膜も可能 ■フィルムへの大面積、フレキシブル成膜可能 ■基板温度制御－50～120℃まで対応 ■フィルムシートへのインライン成膜への対応も可能（オプション） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
私共は平成元年に「プラズマ」と「真空」の技術に夢を追いかけナノテック株式会社を設立致しました。現在これらの技術を用いて、DLC（ダイヤモンドライクカーボン）を始めとしたコーティング技術の開発を行っております。DLCコーティング技術の多くはドリル、金型、機械部品などへ応用され、産業の「縁の下の力持ち」的な技術とも言えます。日本が「技術立国」として成り立っているのは、このような表面には出ない素晴らしいテクノロジーが存在し、高性能、高品質の製品が生み出されるからと考えます。ナノテックがお客様のニーズに長期間に渡り応えていくためには社内制度の充実がカギであり、ここで働く人たちの発想や行動こそが活気溢れる企業風土を作り、お客様への信頼のある対応につながると考えます。この環境を作り上げる事をなによりも大切なものとして現在取り組んでいます。
