日本発の新しい半導体材料！世界中の研究・開発機関へ優れた材料を届けます
『酸化ガリウム』は、融液成長法でバルク結晶の製造を行うため、 高速な成長が可能な半導体材料です。 気相成長法でバルク結晶を製造するGaNやSiCと比べ、基板の低コスト化が 可能とされています。 また、絶縁破壊電界強度がGaNやSiCより大きいことが予測されており、 スイッチング損失を小さく保ったまま、6000V以上の大きな耐圧を持つ パワーデバイスを作製できることが期待されています。 【特長】 ■低コストでバルク単結晶の製造が可能 ■GaNやSiCを超える高耐圧パワーデバイスの可能性 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【酸化ガリウムの活用例】 ■次世代パワーデバイス ・バッテリー駆動時間の大幅アップや送電時の電力損失減少を実現 ■過酷環境下デバイス ・放射線の降り注ぐ宇宙空間や、800℃を超えるボイラー炉内でも駆動 ■医療応用分野 ・粒子がん治療やPET検査など ■高性能イメージセンサ ・大きく重い4K・8Kの高精細カメラがスマホへ搭載可能に ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
株式会社ノベルクリスタルテクノロジーは、株式会社タムラ製作所から カーブアウトして創立されたベンチャー企業です。 「新しい材料が拓く、新しい未来の暮らし」をコンセプトに、 新材料「酸化ガリウム」を世に広める仕事をしています。