低温成膜。高絶縁、ハイバリア、均一性！
『PEGASUS』は、メモリ、パワーデバイス、MEMSへの 絶縁膜、保護膜の形成プロセスに低温で緻密な安定した成膜が可能な 量産対応型プラズマCVD装置です。 インターロック機構による、高い安全性を持ち合わせており、ウエハ 接触部位に非金属を使用しているため、裏面からの汚染を防止します。 【特長】 ■低温成膜 ■メンテナンス性 ■ウエハ取扱い ■フットプリント ■保守メンテナンス など ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【仕様】 ■サイズ：W4000mm×D2000mm×2000mm ■プラズマソース：ICP、RFバイアス ■ガス種：SiH4、O2、N2、HMDSO、NF3 ■ウエハサイズ：～φ12インチ（FOUP対応） ■成膜速度：～300nm/min ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
当社は、半導体製造装置に関する、製造及び営業販売を行っています。 メモリ、パワーデバイス、センサーデバイス（～φ300mm）基板への絶縁膜、保護膜の 形成プロセスに、低温で緻密な安定した成膜が可能な量産対応型プラズマ CVD装置『PEGASUS』を製造販売しています。 ご要望の際は、お気軽にお問合せ下さい。