お客様に好適なポリッシング剤をカスタムメイドでご提供します！
当社の『CHEMISTER CL-シリーズ』は、酸化物系基板用に開発した、 高い研磨Rateと研磨面品質を実現する研磨剤です。 SAWデバイス用基板に利用されるタンタル酸リチウム(LiTaO3)をはじめ、 ニオブ酸リチウム(LiNbO3)、サファイア、酸化亜鉛、ガーネットなどを 対象としています。 【特長】 ■コロイダルシリカを砥粒としたポリシング用鏡面研磨剤である ■難加工性材料である、タンタル酸リチウム(LiTaO3)、サファイア等に 対して、高い研磨Rate、研磨面品質を実現 ■お客様のニーズ･ご要望にお答えしカスタマイズした研磨剤を提供 ※詳しくはお気軽にお問い合わせください。
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基本情報
【その他製品一覧】 ■ハードディスク(HD)用研磨剤製品 ■パワー半導体基板用研磨剤製品 ■化合物半導体基板用研磨剤製品 ■各種セラミックス材料用研磨剤製品 ■金属材料用研磨剤製品 ■プラスチックレンズ用研磨剤製品 ■その他研磨剤製品 ※詳しくはお気軽にお問い合わせください。
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企業情報
当社は、研磨剤メーカーとして1985年創業以来、鏡面研磨剤の分野で常に 新しいことに挑戦して技術を磨き、ノウハウを蓄積してまいりました。 当社の強みは、お客様が求める多種多様な品質要求に対して、 課題を共有し、迅速かつ柔軟に製品を好適化いたします。 また研磨対象となる素材に応じて、材料知識、配合技術を駆使して組成設計を 行い、高い生産性と最高級品質の研磨面を実現する研磨剤を開発しております。