高周波誘導溶解により溶解した金属を第一段階としてガスで粉砕！
当社では、『多級粉砕装置』を取り扱っております。 真空排気後、不活性ガスを溶解チャンバーに置換させた後、高周波誘導 溶解により溶解した金属を第一段階としてガスで粉砕させます。 次に、霧状に液滴化させた金属を第二段階として冷媒を供給した 高速回転しているディスク上に衝突。 多段階的に溶解試料を粉砕及び急冷するためアモルファスやナノ結晶などの 非平衡組織を有する微細粉末の作製にメリットを有します。 【特長】 ■多段階的に溶解試料を粉砕及び急冷する ■非平衡組織を有する微細粉末の作製にメリットを有する ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
この製品へのお問い合わせ
カタログ（1）
カタログをまとめてダウンロード
企業情報
株式会社真壁技研は、真空技術・温度制御・運動機構の3要素を長年の 経験と技術を生かし、ユーザーのニーズにあった最適な装置を製造、 提供し続けています。 技術的展開と発展だけを求めるのでは無く、研究テーマがどんな目的を 持って真の豊かさにつながるのかを衷心より考慮しながら従事していくこと、 その行為自体が本当の豊かさや生きがいやりがいにつながることを願い日々 研鑽しております。ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。
