枚葉式のためプロセスの再現性が高く、薬液使用量も少なく済みます。品質向上・プロセス安定ニーズにお応えするレジスト現像装置です！
枚葉式フォトレジスト現像装置です。 パドル現像、スプレー現像（1流体、2流体）など様々な現像プロセスに対応できます。 薄型ウェハや角基板など多数実績がございます！ また、厚膜レジスト現像～微細なパターンの現像まで幅広く対応できます。 当製品は、枚葉式で現像、ベーク、クーリング機能を搭載（オプション：全面露光ユニット） マニュアル機～フルオート機まで生産量に合わせたラインアップで、 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました。 TMAH（水酸化テトラメチルアンモニウム）、炭酸ナトリウム、コリン水溶液など多彩な薬液に実績があります。 【特長】 ■安定した現像プロセス！ ■低価格 ■自動サイズウエハ認識 ■多彩な薬液に実績あり ■仕様に合わせたコンパクト設計！ ■生産量に合わせた装置ラインアップ デモ設備は常設しておりますので、デモのご検討をお願いいたします。
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基本情報
【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン現像ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■現像ノズル：1組/CUP ■リンスノズル：1組/CUP ■ベークユニット：4組（Max200℃） ■クーリングユニット：2組 ■センタリングユニット：1組 ■装置サイズ：（例）1400×1100×1800(Φ4"本体) 400×900×1800(薬液供給＋電源BOX) ■ウェハ搬送ロボット：1組（ダブルアームクリーンロボット） その他オプション多数！ ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
※4～5ヶ月（通常）、状況によって変動しますので、お気軽にお問い合わせください。
用途／実績例
パワーデバイス、SAWフィルター、LED、LD等の分野に多数の実績がございます。
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企業情報
フォトレジストの塗布・露光・現像装置をメインとし、両面露光装置等、フォトリソグラフィープロセス全般および関連プロセス装置の設計・製造・販売を行っております。 特に、凹凸やＶ溝のある基板または、角基板や不定形基板への均一性の高い塗布技術を有しております。さらに、高圧ジェットＮＭＰによるバリ、メタルの再付着の発生の無い剥離・リフトオフ装置を開発し、販売しております。 その他、ポリイミド・ＰＢＦ・ＯＣＤ・ＷＡＸ等各種塗布装置、高温ベーキング装置、スピンドライヤー装置等取り扱っております。 お客様の仕様・予算により装置をカスタマイズしてお作りしております。 また、各種ウェハ、基板等の販売も行っております。